안녕하십니까? 저는 대전에 필텍광학이라는 코팅전문회사에 근무하는 이 은석이라고 합니다. 저희는 진공증착(PVD)를 주사업으로 하고 있지만 장래에는 CVD를, 또는 플라즈마를 이용한 코팅을 하려고 노력 중입니다. 제가 궁금한 것은 PMMA 또는 PC(폴리카보네이트)의 금속산화물 증착이 가능하도록 플라즈마 표면개질로 가능한 방법이 있는가? 궁급합니다. 저희는 자체 제작한 플라즈마 장비로  실험을 하고 있는데 기본구조를 소개드리면,
  13.56MHz
  0 - 1500 watt
  3가지 gas를 동시 주입이 가능하고
  2종류의 액상 모노머를 혼입할 수 있도록 만들었습니다.  
  reactor는 대략  1000 x 800 x 650 mm 정도로 판형 전극이 장치되어 있습니다.
산소, 질소, 알콘, 이산화탄소 등의 플라즈마 처리와
실란류들의 플라즈마중합도 해보았는데 부착성에서 시료부착성이 문제가 됩고 있습니다.
강의록 내용중에 암모니아를 이용한 PMMA 표면개질에 대해 간단히 소개되었던데 조금 자세한 설명 좀 부탁드리겠습니다.
또한 이와유사한 경험이 있으신 분의 도움을 받고 싶습니다.
그럼 안녕히 계세요!

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76542
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20077
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68615
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91697
82 M/W, RF의 Plasma에 의한 Ashing 관련 문의드립니다. [1] 3146
81 PECVD Precursor 별 Arcing 원인 [1] 3189
80 Plasma Etch시 Wafer Edge 영향 [1] 3491
79 ICP-RIE process 및 plasma에 대해 질문있습니다. [2] 3626
78 DC스퍼터링과 RF스퍼터링에서의 처음 전자의 출처와 처음 이온의 생성 질문 [2] 3764
77 HF + LF 사용 중, LF와 POWER와의 관계에 대한 질문입니다. [1] 3857
76 Plasma 식각 test 관련 문의 [1] 3950
75 SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문 [1] 4122
74 플라즈마 색 관찰 [1] 4194
73 Dry Etching Uniformity 개선 방법 [2] 4244
72 SiO2 식각 위한 Remote Plasma Source관련 질문 드립니다. [1] 5185
71 DRAM과 NAND에칭 공정의 차이 [1] 5423
70 SiO2를 Etching 할 시 NF3 단독 보다 O2를 1:1로 섞을시 Etching이 잘되는 이유 [1] file 5735
69 모노실란(SiH4) 분해 메카니즘 문의 6045
68 RPS를 이용한 NF3와 CF4 Etch Rate 차이 [4] 6201
67 O2 플라즈마 표면처리 관련 질문2154 [1] 6360
66 안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다. [1] 6390
65 플라즈마 데미지에 관하여.. [1] 6484
64 안녕하세요, 질문드립니다. [2] 6569
63 플라즈마 쪽에 관심이 많은 고등학생입니다. [1] 7695

Boards


XE Login