[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내

2021.05.03 12:39

pal_webmaster 조회 수:75408

안녕하세요. 플라즈마응용연구실 관라자입니다.

 

금일부터 QnA 글을 작성하기 위해 등업제도를 일부 이용합니다.

 

해당 공지 게시글에 가입 인사를 적어주시면 QnA 글을 쓸 수 있는 권한을 받게 됩니다.

(*별도의 권한 처리 없이 댓글 등록시 바로 QnA 작성이 가능해집니다.)

 

글 작성 전에 반드시 댓글을 남겨주시고 QnA 글을 작성해주시기 바랍니다.

 

감사합니다.

 

** 기존에 글을 작성하셨던 분들도 권한 처리가 필요하므로 간단하게라도 댓글 부탁드립니다.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
» [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [218] 75408
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19148
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 56477
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 67537
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 89320
72 SiO2 식각 위한 Remote Plasma Source관련 질문 드립니다. [1] 4603
71 SiO2를 Etching 할 시 NF3 단독 보다 O2를 1:1로 섞을시 Etching이 잘되는 이유 [1] file 5089
70 DRAM과 NAND에칭 공정의 차이 [1] 5229
69 안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다. [1] 5245
68 RPS를 이용한 NF3와 CF4 Etch Rate 차이 [4] 5832
67 모노실란(SiH4) 분해 메카니즘 문의 5875
66 O2 플라즈마 표면처리 관련 질문2154 [1] 6173
65 플라즈마 데미지에 관하여.. [1] 6380
64 안녕하세요, 질문드립니다. [2] 6544
63 플라즈마 쪽에 관심이 많은 고등학생입니다. [1] 7652
62 플라즈마 균일도에 대해서 질문드립니다. [1] 7861
61 고온 플라즈마 관련 8064
60 Ar Gas 량에 따른 Deposition Rate 변화 [1] 8356
59 공기정화기, 표면개질, PDP. 플라즈마응용 9208
58 에칭후 particle에서 발생하는 현상 9359
57 미국의 RF 관련 회사 문의드립니다. [1] 10156
56 N2, Ar Plasma Treatment 질문입니다. [1] 10511
55 ICP와 CCP의 차이 [3] 12024
54 플라즈마 절단기에서 발생 플라즈마 14699
53 산업용 플라즈마 내에서 particle의 형성 14989
쓰기
태그

Boards

XE Login