Sheath 교수님 질문이 있습니다.

2019.07.01 18:46

팸킷 조회 수:580

안녕하세요 교수님 , 저는 최근들어 반도체공정관련해서 공부중인 지나가던(?) 기계공학과 학생입니다 !

다름이 아니라 , 플라즈마 sheath에 대해 찾아보니까 약간 개념적으로 정확하게 잘 정립이 안되서 이곳저곳 찾다가 이곳을 알게되어

이렇게 질문을하게 되었습니다.


플라즈마 sheath는 제가 찾아본바에 의하면 , 전자는 양이온보다 속도가 빨라서 chamber벽 같은곳에 흡수가 잘되어서 결국 소실되는게 많아

상대적으로 양이온,중성자만 많게된 곳을 sheath라고 알고있습니다.  그런데 , sheath 층은 얇을수록 플라즈마 bulk( 플라즈마 sheath가 아닌영역)안에 있는 양이온이 이동하기가 쉬워서 결국 wafer를 양이온으로 dry etch하는게 더 쉽다는데,


1.왜 sheath층이 얇을수록 양이온이 더 이동하기 쉬운지 알고싶습니다.


2. 그리고 sheath층을 줄이려면 어떤방법들이 있을까요??   ex> (답은아니겠지만...) 가해주는 전압을 줄인다. 등등 간단한식으로 말씀해주셔도 전혀 상관없습니다 !! 


감사합니다 교수님 !!

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [143] 5798
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 17211
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 53024
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 64472
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 85086
598 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [2] 582
597 ECR ion source에서 plasma가 켜지면 RF reflect가 심해집니다. [2] 584
596 IMPEDANCE MATCHING PATH에서 S/H ~ MATCHER 간 전력전송 방법들에 대해 문의드립니다. [2] 587
595 MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [1] 593
594 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] 596
593 ICP 후 변색 질문 598
592 연면거리에 대해 궁금합니다. [1] 598
591 Al Dry Etch 후 잔류 Cl 이온 제어를 위한 후처리 방법 [1] 601
590 코로나 전류에 따른 발생되는 이온의 수와, 하전에 영향을 미치는 요소에 대해서 질문드립니다 [1] 606
589 플라즈마용사코팅에서의 carrier gas [1] 606
588 안녕하세요 플라즈마의 원초적인 개념에서 궁금한 점이 생겨서 질문드립니다. [1] 613
587 텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [1] 621
586 Collisional mean free path 문의... [1] 627
585 RF Antena와 Matcher 間 상관관계 문의드립니다. [1] 627
584 코로나 전류가 0가까이 떨어지는 현상 [1] 630
583 O2 Asher o-ring 문의드립니다. [1] 640
582 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 어떤 이유들이 있을까요..? [2] 647
581 매쳐 출력값 검토 부탁 드립니다. [1] 655
580 RIE 공정시에 형성되는 두 효과를 분리해 보고 싶습니다. [1] 662
579 DBD Plasma Actuator 원리에 대한 질문입니다. [1] 663

Boards


XE Login