Others Shield 및 housing은 ground 와 floating 중 어떤게 더 좋은지요

2020.09.08 09:59

양심만세 조회 수:725

안녕하세요. 장비회사에서 근무하는 양철훈 이라고 합니다.

궁금한 점이 있어 문의 드립니다.

 - DC sputter에서 스퍼터링 건에서 전원부 말고 Sheild나 housing는 전기적으로 ground가 좋은가요 floating 시키는 것이 좋은지요. DC에서는 상관없을 수도 있다는 생각이 들기도 합니다.

 - 동일 질문을 RF sputter의 경우에 하면 어떤 것이 더 좋은지요. RF에서는 charging 문제로 ground가 되어야만 할 것같다는 생각이 들기도 합니다.

어떤 것이 더 좋은지와 이 이유 답변 부탁드립니다.

감사합니다.


이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [220] 75427
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19163
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 56479
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 67556
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 89368
648 조선업에서 철재절단용으로 사용하는 가스 프라즈마에 대한 질문 [1] 538
647 플라즈마 진단 공부중 질문 [1] 542
646 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] 545
645 RPC CLEAN 시 THD 발생 [1] 564
644 플라즈마 기본 사양 문의 [1] 585
643 Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [1] file 586
642 RF magnetron sputtering시 플라즈마 off현상 [1] 597
641 CF3의 wavelength가 궁금해서 질문드립니다. [1] 598
640 Si 표면에 Ar Plasma Etching하면 안되는 이유 [1] 599
639 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다 [1] 601
638 플라즈마를 통한 정전기 제거관련. [1] 602
637 analog tuner관련해서 질문드립니다. [1] 606
636 ICP 대기압 플라즈마 분석 [1] 606
635 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] 608
634 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다 [2] 615
633 Hollow Cathode glow Discharge 실험 관련해서 여쭤보고싶습니다. [1] file 620
632 O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. 625
631 안녕하세요. 플라즈마 기체분자종에 따른 기판charing정도차이 문의 [1] 627
630 Ion과 Radical의 이동 거리 및 거리에 따른 농도와 증착 품질 관련 [1] 633
629 Ashing 공정에 필요한 O2 plasma에 대해 궁금한 점이 있습니다. [1] 635
쓰기
태그

Boards

XE Login