질문 ::

안녕하세요
며칠 전에 교수님에게 교육을 받고 궁금한 것이 있어 멜을 보냅니다.

self_bias 를 만들기 위해서 blocking capacitor 와 전극의 면적크기를 달리하는 데, 면적의 크기를 달리 하면 왜 Self-bais 가 향상되죠?

답변 ::

Self bias에 관한 이전의 설명을 참조하시기 바랍니다.

단, blocking capacitor와 전극의 면적이 크기를 달리한다고 생각하였는데 blocking capacitor의 역할은
반응기의 electrode와 연결된 power supply에 높은 직류 전류가 흐르는 것을 막기위한 안전장치로써
electrode와 직렬 연결되어 있는 capacitor를 의미하며, 이 capacitor는 또한 DC 전류를 block함으로써
capacitor와 연결되어 있는 electrode의 전위를 음으로 shift시키게 됩니다 (self bias). 또한 electrode 의 전극의 크기가
bias 전위의 크기에 영향을 주는 이유는 이 전극이 플라즈마와 직렬로 연결되어 있음으로 플라즈마와 전극 사이에  
형성되어 있는 sheath 영역의 capacitance의 크기가 변하기 때문입니다. 일반적으로 면적이 넓어지면 capacitance는 커지나
전류의 크기가 같아하고 (직렬회로) 따라서 같은 시간동안 하전되는 전하량은 전극의 크기에 상관없이 같아야 할 것입니다.
따라서 C가 큰 곳에는 voltage drop이 작아야 하며 C가 작은 곳에서는 V가 크게 되고 이 C는 전극의 크기, V는 sheath potential
즉 플라즈마에서 전극으로 전위가 강하되는 값을 나타냅니다. 따라서 크기가 작은 전극 앞에서의 전위변화가 매우
크게 나타나게 되는 것 입니다.  

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [320] 85739
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 22614
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 59310
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 71050
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 98094
728 상압 플라즈마 관련 문의입니다. [열용량과 방전 전력에 따른 냉각 장치] [1] 21659
727 대기압플라즈마를 이용한 세정장치 21623
726 Breakdown에 대해 21568
» CCP에서 Area effect(면적)? [Self bias와 sheath capacitance] 21539
724 저온 플라즈마에서 이온, 전자, 중성자 온도의 비평형이 생기는 이유에 대해서 [Equilibrium과 collision] [1] 21461
723 47th American Vacuum Society International Symposium 2000 file 21457
722 플라즈마 측정기 [How Langmuir Probe Works] [1] 21454
721 플라즈마 실험 21396
720 ICP 플라즈마 매칭 문의 [Matching과 breakdown] [2] 21386
719 Xe 기체를 사용한 플라즈마 응용 21384
718 전자파 누설에 관해서 질문드립니다. [Coaxial cable과 wave shield] [1] file 21290
717 RF plasma에 대해서 질문드립니다. [Sheath model, Ion current density] [2] 21176
716 플라즈마란? [제 4의 물질 상태] 21120
715 대기압 플라즈마 진단 [탐침을 통한 대기압 진단의 문제점] 21067
714 UBM 스퍼터링 장비로… [UBM과 열팽창 및 coating] [1] 21049
713 plasma cleanning에 관하여 [Sputtering과 Etch] 20917
712 IEDF EQP에 대한 답변 file 20863
711 이온주입량에 대한 문의 20828
710 플라즈마 진단법에 대하여 [플라즈마 진단과 Spectroscopy] [1] 20805
709 교재구입 20796

Boards


XE Login