안녕하세요. 전남대학교 정세훈이라고 합니다.
몇가지 궁금한점이 있어 질문드립니다

a)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 500 eV.

b)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 5000 eV

Cu원자의 에너지값이 어떻게되나요? 여러논문을 검색해보았는데
thompson distribution E/(E+Eb) 에 대해서는 나오는데.. 계산이 잘 안돼서요..
--------------------
위의 질문에 대한 참고 자료를 군산대학교 주정훈교수님께서 올려 주셨습니다. 그림과 같이 Kr 입자 조사에 의한 스퍼터링된 Cu의 에너지 및 이탈 속도 함수를 보여주고 있습니다. Ar과 조사 입자의 질량 차이가 있을 뿐 이를 고려한다면 거의 현상은 유사할 것으로 판단됩니다. 이 자료는 교재에 있다고 하니 참고하시기 바랍니다. 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76714
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20170
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57164
» kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68695
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92273
668 반도체 관련 플라즈마 실험 [1] 1222
667 스퍼터링 Dep. 두께 감소 관련 문의사항 [1] 445
666 방전수 활성종 중 과산화수소 측정에 관련하여 질문드립니다. [1] 812
665 Dry Chamber VPP 변동 관련 질문입니다 [1] 880
664 RF 파워서플라이 매칭 문제 815
663 CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다. [1] file 4916
662 RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [1] 1239
661 플라즈마 진단 공부중 질문 [1] 687
660 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] 604
659 N2 / N2O Gas 사용시 Plamsa 차이점 [1] 1442
658 플라즈마 세정처리한 PCB, Lead Frame 재활용 방법 [1] 484
657 etch defect 관련 질문드립니다 [1] 1056
656 Co-relation between RF Forward power and Vpp [1] 593
655 RF Antena와 Matcher 間 상관관계 문의드립니다. [1] 1008
654 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [1] file 592
653 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] 1056
652 Matcher 구성에 따른 챔버 임피던스 영향에 대해 문의드립니다. [1] 1512
651 플라즈마 세정 장비 (CCP구조)에서 자재 로딩 수에 따른 플라즈마 효과 및 Discolor [1] file 878
650 doping type에 따른 ER 차이 [1] 2049
649 ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [1] 832

Boards


XE Login