Plasma Source Si Wafer에 Plasma를 처리했을때 정전기 발생
2020.01.08 19:18
안녕하세요?
저는 국내 PKG회사에 다니고 있는 공정 Eng'r입니다.
PKG공정에서 O2 Plasma 처리후 봉지재(Epoxy Mold Compound)를 밀봉하는 공정이 있는데
봉지재내의 Filler가 Si 계면과 분리되고 봉지재의 Resin만 Si 기판에 Molding이 되는 현상이 발생합니다.
Googling을 해 본 결과, Electrostatically charge된 Filler가 Plasma를 맞은 기판과 같은 Charge를 띄었을때 이 증상이 날 수 있다고 합니다.
Plasma별 대전된 극상(+인지, -인지)을 알 수 있을까요?
참고로 저희 회사에서는 O2, N2, Ar을 사용할 수 있습니다. 장비의 Parameter를 변경하여 극성을 바꿀 수 있는지도 문의드립니다.
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [235] | 75788 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 19473 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 56680 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68068 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 90361 |
638 |
CF3의 wavelength가 궁금해서 질문드립니다.
[1] ![]() | 632 |
637 |
플라즈마를 통한 정전기 제거관련.
[1] ![]() | 640 |
636 |
Hollow Cathode glow Discharge 실험 관련해서 여쭤보고싶습니다.
[1] ![]() ![]() | 642 |
635 |
ICP 대기압 플라즈마 분석
[1] ![]() | 651 |
634 |
안녕하세요. 플라즈마 기체분자종에 따른 기판charing정도차이 문의
[1] ![]() | 654 |
633 |
O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다.
![]() | 654 |
632 |
플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성
[2] ![]() | 669 |
631 |
Ion과 Radical의 이동 거리 및 거리에 따른 농도와 증착 품질 관련
[1] ![]() | 671 |
630 |
안녕하세요. Plasma etch rate에 관하여 질문이 있습니다.
[1] ![]() | 672 |
629 |
ICP 후 변색 질문
![]() | 686 |
628 |
교수님 질문이 있습니다.
[1] ![]() | 688 |
627 |
코로나 전류가 0가까이 떨어지는 현상
[1] ![]() | 690 |
626 |
안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다
[2] ![]() | 694 |
625 |
라디컬의 재결합 방지
[1] ![]() | 699 |
624 |
RPS를 이용한 유기물 식각장비 문의
[1] ![]() | 701 |
623 |
RF 전압인가 시 LF와 HF 에서의 Sheath 비교
[1] ![]() | 704 |
622 |
ECR ion source에서 plasma가 켜지면 RF reflect가 심해집니다.
[2] ![]() | 709 |
621 |
플라즈마 용어 질문드립니다
[1] ![]() | 715 |
620 |
코로나 전류에 따른 발생되는 이온의 수와, 하전에 영향을 미치는 요소에 대해서 질문드립니다
[1] ![]() | 723 |
619 |
플라즈마용사코팅에서의 carrier gas
[1] ![]() | 728 |
파티클 관리 문제는 성균과대학교 김태성교수님께 문의드려 보세요. 섣부른 답변보다는 전문가의 식견이 필요해 보이는 군요.