Remote Plasma PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활

2023.03.02 15:45

청주꽃남 조회 수:859

기초적인 질문인데요

PECVD 장비에서 Cleaning을 할때 보통 Remote plasma NF3 + Ar Gas를 사용하는데요

Ar Gas의 정확한 역할을 알고 싶습니다.

 

Purge나 Carrier 용도라면 N2나 O2도 사용가능한데 굳이 Ar을 사용하는 다른 목적이 있는건지 궁금합니다.

감사합니다.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [235] 75788
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19473
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 56680
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68068
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 90361
638 CF3의 wavelength가 궁금해서 질문드립니다. [1] new 632
637 플라즈마를 통한 정전기 제거관련. [1] new 640
636 Hollow Cathode glow Discharge 실험 관련해서 여쭤보고싶습니다. [1] newfile 642
635 ICP 대기압 플라즈마 분석 [1] new 651
634 안녕하세요. 플라즈마 기체분자종에 따른 기판charing정도차이 문의 [1] new 654
633 O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. new 654
632 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [2] new 669
631 Ion과 Radical의 이동 거리 및 거리에 따른 농도와 증착 품질 관련 [1] new 671
630 안녕하세요. Plasma etch rate에 관하여 질문이 있습니다. [1] new 672
629 ICP 후 변색 질문 new 686
628 교수님 질문이 있습니다. [1] new 688
627 코로나 전류가 0가까이 떨어지는 현상 [1] new 690
626 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다 [2] new 694
625 라디컬의 재결합 방지 [1] new 699
624 RPS를 이용한 유기물 식각장비 문의 [1] new 701
623 RF 전압인가 시 LF와 HF 에서의 Sheath 비교 [1] new 704
622 ECR ion source에서 plasma가 켜지면 RF reflect가 심해집니다. [2] new 709
621 플라즈마 용어 질문드립니다 [1] new 715
620 코로나 전류에 따른 발생되는 이온의 수와, 하전에 영향을 미치는 요소에 대해서 질문드립니다 [1] new 723
619 플라즈마용사코팅에서의 carrier gas [1] new 728
쓰기
태그

Boards

XE Login