Others Full Face Erosion 관련 질문
2008.12.16 08:24
안녕하세요.
Full face erosion 관련 자료를 찾던 중 이곳까지 오게되었습니다. 인터넷검색으로는 자료를 찾을수가 없어서
이렇게 글을 올립니다.
high deposition rate가능, long time process가능, 간단한 process control
등의 장점은 대충 알고 있으나, 어떠한 구조인지, 어떠한 원리로 위의 장점들이 가능한지,
단점은 무엇인지, 기존 sputter와 차이점 등등 FFE에 대한 자세한 내용을 알고싶습니다.
답변해 주시면 정말 많은 도움이 될 것같습니다.
자료를 올려주셔도 괜찮습니다 ^^;;;
사회초년생으로서 배울것이 너무 많은것 같네요.
염치없지만 부탁드립니다 ㅠ.ㅠ
댓글 2
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [220] | 75432 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 19168 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 56480 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 67563 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 89370 |
52 | Ar fraction에 따른 Plasma 특성 질문입니다. [1] | 15723 |
51 | [Sputter Forward,Reflect Power] [1] | 28887 |
50 | RF Plasma(PECVD) 관련 질문드립니다. | 31394 |
49 | Sputter 시에 Gas Reaction 에 대해 문의 드립니다. | 20139 |
48 | H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문 입니다. [2] | 19303 |
47 |
[re] H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문에 대한 답변 드립니다.
![]() | 29669 |
46 | [re] H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문 입니다. | 17144 |
45 | ECR plasma 장비관련 질문입니다. [2] | 34785 |
44 | UBM 스퍼터링 장비로... [1] | 20820 |
43 | N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [2] | 23551 |
42 | H2/O2 플라즈마에 대해서 질문드립니다. 꼭 답변점... [1] | 24501 |
41 | 몇가지 질문있습니다 | 16557 |
40 | Dry Etcher 에 대한 교재 [1] | 22468 |
39 | Dry Etch장비에서 Vdc와 Etch rate관계 [1] | 22563 |
» | Full Face Erosion 관련 질문 [2] | 19435 |
37 | RF에 대하여... | 29865 |
36 | Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제 | 23994 |
35 | DC Bias Vs Self bias [5] | 31223 |
34 | 스퍼터링에서 DC bias의 감소 원인이 궁금합니다.. | 24679 |
33 | RIE장비 에서 WALL 과 TOP 온도 | 20344 |