Plasma Source Plasma에 의한 분해 및 치환 반응(질문)
2019.06.26 10:25
안녕하십니까.. 현재 반도체업계 종사중이며 Plasma 관련 일을 하고 있습니다.
다름이 아니오라 궁금한 점이 있어 이렇게 글을 올립니다.
Plasma에 의한 Gas 분해 및 치환 시 하기와 같은 예로
Zr[N(CH3)(C2H5)]4 ---->Zr + N + C + H (O2 Add)
-- Zr + O2 --->ZrO2
-- C + O2 -->CO2
-- N + N --> N2
-- 4H + O2 -->2H2O
반응하여 생성된다고 가정하였을 때
반도체 공정중에서 Plasma를 발생시켜 Source Gas 및 Add Gas를 반응시켰을 시
1. 생성되는 Powder 종류
2. 생성되는 Gas 종류
3. 항목 1~2에서 우선순위로 생성되는 Gas 및 Powder 종류
위 내용에 관련하여 조언 및 교육을 받고자 하오니 답변 부탁드리겠습니다.
이상입니다.
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] | 76727 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20184 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57167 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68699 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92278 |
668 | 플라즈마 진단법에 대하여 [1] | 20576 |
667 | 확산펌프 | 20516 |
666 | wafer 전하 소거: 경험 있습니다. | 20480 |
665 | RIE장비 에서 WALL 과 TOP 온도 | 20422 |
664 | Langmuir probe tip 재료 | 20408 |
663 | CCP형, 진공챔버 내에서의 플라즈마... [1] | 20380 |
662 | 상압 플라즈마 방전에 관한 문의 [1] | 20311 |
661 | 안녕하세요. GS플라텍 지성훈입니다. [1] | 20259 |
660 | 형광등과 플라즈마 | 20247 |
659 | 플라즈마 matching | 20236 |
658 | DBD플라즈마와 플라즈마 impedance | 20207 |
657 | Sputter 시에 Gas Reaction 에 대해 문의 드립니다. | 20204 |
656 | 플라즈마 진동수와 전자온도 | 20043 |
655 | 석영이 사용되는 이유? [1] | 20021 |
654 | CCP의 Vp가 ICP의 Vp보다 높은 이유 | 20008 |
653 | [질문] 석영 parts로인한 특성 이상 [1] | 19836 |
652 | 에쳐장비HF/LF 그라운드 관련 [1] | 19776 |
651 | 상압플라즈마에서 온도와의 관계를 알고 싶습니다. | 19762 |
650 | 대기압 상태의 플라즈마 측정 | 19728 |
powder 문제는 성균관대학교 기계공학과 김태성교수님 혹은 교통대학교 김성룡 교수님께 문의드려 보시면 도움을 받을 수 있을 것 같습니다.