안녕하세요, 이번에 대학원에 진학하게 된 학생입니다.


제 전공은 생물공학인지라 플라즈마에 관한 내용을 잘 알지 못하는데, 이번에 샘플의 표면 산화처리를 위해 플라즈마 기계의 이용을 권유받았습니다.

다만 문제가 있는 부분이 제 샘플이 약 10-100um의 플라스틱 분말이라는 점입니다.

진공을 걸고 푸는 과정에서 샘플이 날려 기계에 문제가 될 수 있다는 답변을 받아 여러 방법을 고민중입니다.


제가 고민하는 실험방법은 크게 두 종류입니다.

1. 밀폐가 가능한 유리용기 내에 미리 산소를 주입하여 포화도를 올린 후 밀봉한 상태로 플라즈마 처리

2. 공기는 이동이 가능하나 분말은 이동이 불가능한 사이즈의 필터를 이용해 샘플을 가둬둔 후 플라즈마 처리


이러한 실험이 가능하려면 종이 혹은 유리를 뚫고서 내부에 있는 분말까지 플라즈마 처리가 이루어져야 하는데,

이 부분을 확신할 수 없어 문헌조사만 하고 있습니다.

제가 찾아보고 이해하는데 시간적 한계가 와서 이 곳에 질문을 남깁니다.

답변이 가능하신 부분이라면 좋겠지만, 혹여 그렇지 못하다면 이와 관련된 논문이나 자료가 있을지도 여쭤보고 싶습니다.

제가 사용할 기기는 femco science 사의 cute라는 기계입니다.


답변 부탁드립니다. 감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [267] 76710
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20163
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57162
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68684
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92246
668 반도체 관련 플라즈마 실험 [1] 1222
667 스퍼터링 Dep. 두께 감소 관련 문의사항 [1] 443
666 방전수 활성종 중 과산화수소 측정에 관련하여 질문드립니다. [1] 812
665 Dry Chamber VPP 변동 관련 질문입니다 [1] 879
664 RF 파워서플라이 매칭 문제 814
663 CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다. [1] file 4907
662 RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [1] 1238
661 플라즈마 진단 공부중 질문 [1] 685
660 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] 604
659 N2 / N2O Gas 사용시 Plamsa 차이점 [1] 1440
658 플라즈마 세정처리한 PCB, Lead Frame 재활용 방법 [1] 484
657 etch defect 관련 질문드립니다 [1] 1054
656 Co-relation between RF Forward power and Vpp [1] 592
655 RF Antena와 Matcher 間 상관관계 문의드립니다. [1] 1005
654 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [1] file 591
653 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] 1056
652 Matcher 구성에 따른 챔버 임피던스 영향에 대해 문의드립니다. [1] 1510
651 플라즈마 세정 장비 (CCP구조)에서 자재 로딩 수에 따른 플라즈마 효과 및 Discolor [1] file 877
650 doping type에 따른 ER 차이 [1] 2049
649 ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [1] 831

Boards


XE Login