안녕하십니까, 교수님
저는 국내 디스플레이 장비 업체에서 근무 중인 직장인 김준현이라고 합니다.
항상 좋은 답변 해주셔서 업무 진행에 있어 많은 도움을 받고 있습니다.

 

최근 arcing 관련 내용을 공부 중에 있는데요, 궁금한 점이 생겨 이렇게 문의드리게 되었습니다.

 

질문들은 하기와 같습니다. 

 

1. arcing 발생 방지에 있어, ground가 중요한 이유가 무엇인가요...?

 

2. 벽표면 혹은 전극 표면 등에 쌓인 부도체 물질, particle 등이 acring 발생에 어떤 영향을 주는지 그 메카니즘에 관해 알고 싶습니다.    

 

3. 특정 조건에서 기판 지지체 하부에 잔류 플라즈마 발생을 확인할 수 있었는데요, 기판지지체 하부에는 RF Power가 직접적으로 가해지지 않는데 왜 플라즈마가 유지/생성될 수 있는지 궁금합니다. 

 

이상입니다.

 

감사합니다.
 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76714
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20170
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57164
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68695
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92272
668 N2 GAS를 이용한 Plasma에 대한 질문 [1] 598
667 OES 파장 관련하여 질문 드립니다. [1] 603
666 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] 604
665 plasma 공정 중 색변화 [1] 604
664 진공수준에 따른 RF plasma 영향 관련 질문 [1] file 609
663 기판표면 번개모양 불량발생 [1] 609
662 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 613
661 플라즈마 기본 사양 문의 [1] 615
660 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [1] 616
659 주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 [1] 624
658 RPC CLEAN 시 THD 발생 [1] 633
657 플라즈마를 알기 위해선 어떤 과목을 공부해야 할까요? [1] 634
656 Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [1] file 636
655 analog tuner관련해서 질문드립니다. [1] 657
654 Polymer Temp Etch [1] 659
653 RF magnetron sputtering시 플라즈마 off현상 [1] 664
652 [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [1] 669
651 주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가 [1] 675
650 안녕하세요. 플라즈마 기체분자종에 따른 기판charing정도차이 문의 [1] 679
649 반도체 METAL ETCH 시 CH4 GAS의 역할. [1] 680

Boards


XE Login