Others 석영이 사용되는 이유?

2010.04.16 19:26

최영익 조회 수:20020 추천:151

안녕하세요. 플라즈마를 공부하는 최영익이라고 합니다.

plasma device들 중에 석영을 주로 쓰는 경우가 있는데 특별한 이유가있는지요?

플라즈마 발생장치 중에 석영관 사이에서 방전을 한다거나

안테나가 석영관 뒤에 있는 경우가 있는데

석영이 선택되는 특별한 이유가 있는지요?

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76714
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20170
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57164
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68696
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92273
668 N2 GAS를 이용한 Plasma에 대한 질문 [1] 598
667 OES 파장 관련하여 질문 드립니다. [1] 603
666 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] 604
665 plasma 공정 중 색변화 [1] 604
664 진공수준에 따른 RF plasma 영향 관련 질문 [1] file 609
663 기판표면 번개모양 불량발생 [1] 609
662 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 613
661 플라즈마 기본 사양 문의 [1] 615
660 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [1] 616
659 주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 [1] 624
658 RPC CLEAN 시 THD 발생 [1] 633
657 플라즈마를 알기 위해선 어떤 과목을 공부해야 할까요? [1] 634
656 Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [1] file 636
655 analog tuner관련해서 질문드립니다. [1] 657
654 Polymer Temp Etch [1] 659
653 RF magnetron sputtering시 플라즈마 off현상 [1] 665
652 [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [1] 669
651 주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가 [1] 675
650 안녕하세요. 플라즈마 기체분자종에 따른 기판charing정도차이 문의 [1] 679
649 반도체 METAL ETCH 시 CH4 GAS의 역할. [1] 680

Boards


XE Login