Others O2 Plasma 에칭 실험이요

2019.01.30 14:20

Elin0503 조회 수:952

안녕하세요. 회사에 다니고 있는 직장인입니다.


이번에 저희 회사 연구실에서 O2 Plasma를 이용하여 Carbon Film을 날리는 실험을 계획중에 있습니다.


그런데 Carbon Film이 Depo된 Wafer를 구하기가 쉽지가 않습니다..


혹시 Carbon 시편을 구할 수 있는 곳이라던가 연락처아시면 


공유가 가능할까 싶어 너무나 간절한 마음에 여기에 이렇게 질문글을 작성합니다..


도움 부탁드리겠습니다..

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76540
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20076
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68613
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91695
663 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 594
662 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] 598
661 진공수준에 따른 RF plasma 영향 관련 질문 [1] file 599
660 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [1] 601
659 플라즈마 기본 사양 문의 [1] 614
658 주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 [1] 617
657 RPC CLEAN 시 THD 발생 [1] 629
656 Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [1] file 633
655 Polymer Temp Etch [1] 635
654 주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가 [1] 638
653 analog tuner관련해서 질문드립니다. [1] 650
652 RF magnetron sputtering시 플라즈마 off현상 [1] 650
651 반도체 METAL ETCH 시 CH4 GAS의 역할. [1] 650
650 RF Frequency 가변과 FORWARD POWER의 상관관계 [2] 650
649 [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [1] 661
648 플라즈마 진단 공부중 질문 [1] 670
647 RF 주파수에 따른 차이점 [1] 672
646 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다 [1] 673
645 안녕하세요. 플라즈마 기체분자종에 따른 기판charing정도차이 문의 [1] 676
644 정전척의 chucking voltage 범위가 궁금합니다. [1] 677

Boards


XE Login