Etch O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의
2020.10.28 15:20
안녕하십니까
반도체 소재 회사에 다니고 있는 노은수 입니다.
궁금한게 있어서 문의 드립니다.
O2 etch 후 gas의 접촉면과 닿은 polymer에서 아래의 그림과 같이 손톱모양으로 변성(?)이 되는 현상이 있는데 왜 이러한 현상이 발생 하는지 알고 싶습니다.
댓글 0
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] | 76540 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20077 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57115 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68615 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 91696 |
663 | ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] | 594 |
662 | 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] | 598 |
661 | 진공수준에 따른 RF plasma 영향 관련 질문 [1] | 599 |
660 | 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [1] | 601 |
659 | 플라즈마 기본 사양 문의 [1] | 614 |
658 | 주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 [1] | 617 |
657 | RPC CLEAN 시 THD 발생 [1] | 629 |
656 | Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [1] | 633 |
655 | Polymer Temp Etch [1] | 635 |
654 | 주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가 [1] | 639 |
653 | analog tuner관련해서 질문드립니다. [1] | 650 |
652 | RF magnetron sputtering시 플라즈마 off현상 [1] | 650 |
651 | 반도체 METAL ETCH 시 CH4 GAS의 역할. [1] | 650 |
650 | RF Frequency 가변과 FORWARD POWER의 상관관계 [2] | 651 |
649 | [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [1] | 661 |
648 | 플라즈마 진단 공부중 질문 [1] | 670 |
647 | 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다 [1] | 673 |
646 | RF 주파수에 따른 차이점 [1] | 674 |
645 | 안녕하세요. 플라즈마 기체분자종에 따른 기판charing정도차이 문의 [1] | 676 |
644 | 정전척의 chucking voltage 범위가 궁금합니다. [1] | 677 |