Sheath LF Power에의한 Ion Bombardment

2021.06.24 22:36

PEOX 조회 수:1945

안녕하십니까 교수님!!.

가입없이 게시판으로 많은 가르침을 받아가다가 이제서야 질문이 있어 가입후 글을 쓰게 되었습니다.

 

PECVD에서..

HF는 electron 온도 증가로 인한 plasma density 향상

 

LF POWER의 증가는 ion bombardment 를 증가시켜 박막이 더 dense 해져 stress가 더 compressive쪽으로 간다라고 이해하는게 맞는 걸까요? 

density가 높아지는데 compressive한 stress를 가진다고 하는 매커니즘이 잘 이해가 되질 않습니다.

(density가 높으면 (더 빽빽하게 증착되면) 밀려서 사이드쪽으로 늘어날려고 해서 compressive 스트레스를 가진다라고 혼자 이해했는데 맞는건지요.

 

막질의 density가 올라가면 compressive한 스트레스를 가지는게 항상 그런건지

(원래 Tensile한 막질이더라도 LF power 증가하면 Compressive한 방향으로 바뀌나요?)

 

아니면 막질마다 그 효과가 다른건지 궁금합니다. 

 

 

 

추가로 HF영역에서는 frequency가 높으니 유효질량이 작고 mobility가 빠른 electron에 에너지를 더 가해주기 쉽고 

반대로 LF영역에서는  frequency가 낮으니 상대적으로 질량이 크고 느린 ion에 에너지를 가해주기 쉽다고 이해하는게 맞는걸까요?

 

 

 

질문자체에 잘 못된 점이 있다면 바로 잡아주시면 감사하겠습니다!.  

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76540
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20076
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68614
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91695
663 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 594
662 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] 598
661 진공수준에 따른 RF plasma 영향 관련 질문 [1] file 599
660 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [1] 601
659 플라즈마 기본 사양 문의 [1] 614
658 주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 [1] 617
657 RPC CLEAN 시 THD 발생 [1] 629
656 Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [1] file 633
655 Polymer Temp Etch [1] 635
654 주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가 [1] 639
653 analog tuner관련해서 질문드립니다. [1] 650
652 RF magnetron sputtering시 플라즈마 off현상 [1] 650
651 반도체 METAL ETCH 시 CH4 GAS의 역할. [1] 650
650 RF Frequency 가변과 FORWARD POWER의 상관관계 [2] 650
649 [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [1] 661
648 플라즈마 진단 공부중 질문 [1] 670
647 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다 [1] 673
646 RF 주파수에 따른 차이점 [1] 673
645 안녕하세요. 플라즈마 기체분자종에 따른 기판charing정도차이 문의 [1] 676
644 정전척의 chucking voltage 범위가 궁금합니다. [1] 677

Boards


XE Login