안녕하세요. 교수님.

현재 반도체 장비업체에서 Dry etch관련 공정 업무를 수행하고있는 연구원입니다.

평소 플라즈마에 대해 공부하며 다른 사람의 질의응답들을 참고하곤 했었는데, 처음 질문글을 남기게 되네요.

플라즈마 관련 공부 및 실험을 진행하다 궁금한 사항이 있어, 질의를 드립니다.


1. 플라즈마를 방전시켰을때, 발생하는 arcing현상이 발생하는 이유가 뭔지 궁금합니다.

   절연 물질이 절연파괴가 되면서 해당 부분으로 전하가 축적되어 전하차이에 의해 발생하는건가요?

   arcing현상을 줄이기위한 방법들은 어떤 것들이 있을까요? 절연층을 두껍게한다거나, Ground 접지를 이용한 방법들 외 다른 방법들도

   있는지요?


2. 추가로 비슷하게 Local plasma? 플라즈마 방전시 안정화되지 못하고 깜빡거리는 현상역시 발생하는 이유에 대해 궁금합니다.

    사용하고 있는 parameter는 Pressure,  gas, Power 등인데, 각 parameter들이 플라즈마 방전이 발생하기에 부족하거나 불안정하여

    발생되는 현상인가요?


감사합니다.



번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76726
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20176
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57166
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68697
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92275
649 ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [1] 832
648 SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문 [1] 4146
647 MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [1] 1116
646 Tungsten 표면 Contamination 제거(실명재등록) [1] 973
645 plasma 형성 관계 [1] 1512
644 RF matcher와 particle 관계 [2] 2915
643 Bias 관련 질문 드립니다. [1] 3411
642 Sheath 길이와 전자의 온도 및 MFP간의 관계에 대해 질문 드립니다. [1] 4803
641 Al Dry Etch 후 잔류 Cl 이온 제어를 위한 후처리 방법 [1] 2009
640 식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 [1] 1112
639 임피던스 매칭 및 플라즈마 진단 [1] 1270
638 Plasma 식각 test 관련 문의 [1] 3964
637 RF 전압과 압력의 영향? [1] 1676
636 Plasma Cleaning 관련 문의 [1] 1345
635 Uniformity 관련하여 문의드립니다. [1] 1167
634 standing wave effect에 대한 질문이 있습니다. [1] 1605
633 ICP 대기압 플라즈마 분석 [1] 714
632 RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [1] 2311
631 IMPEDANCE MATCHING PATH에서 S/H ~ MATCHER 간 전력전송 방법들에 대해 문의드립니다. [2] 1514
630 안녕하세요 DBD 플라즈마 소독 관련질문입니다. [1] 450

Boards


XE Login