Plasma in general O2 plasma, H2 plasma 처리 관련 질문이 있습니다.
2020.05.28 12:04
안녕하세요. 저는 반도체 업종에서 근무하고 있습니다.
궁금한 점이 있어 질문드립니다.
Amorphous carbon 을 O2 분위기하에서 플라즈마 처리 할 경우 제거되는 지 궁금합니다.
또한 TIN 막을 H2 plasma 처리 할 경우 질소가 제거 된 TI가 되는 지 궁금합니다.
챔버 내 대기압 또는 진공상태가 위의 결과에 영향을 크게 미치는 지 궁금합니다.
감사합니다.
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] | 76728 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20190 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57167 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68700 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92278 |
649 | PM을 한번 하시죠 | 19728 |
648 | DCMagnetron Sputter에서 (+)전원 인가시 | 19712 |
647 | cross section 질문 [1] | 19712 |
646 | Noise 문제, 탐침에 의한 식각 플라즈마의.. | 19687 |
645 | DC SPT 문의 | 19680 |
644 | smsith chart 공식 유도하는 방법? | 19657 |
643 | 플라즈마를 이용한 폐기물 처리 | 19640 |
642 | [re] 터보분자펌프에 대해서 질문 좀 하고 싶어요! | 19539 |
641 | self bias [1] | 19469 |
640 | 플라즈마를 이용한 박막처리 | 19467 |
639 | Full Face Erosion 관련 질문 [2] | 19460 |
638 | QMA에 관하여 [1] | 19426 |
637 | H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문 입니다. [2] | 19416 |
636 | AC 플라즈마에서의 전압/전류 형상... | 19378 |
635 | 터보분자펌프에 대해서 질문 좀 하고 싶어요! | 19356 |
634 | CCP/ICP에서 자석의 역활에 대하여 | 19343 |
633 | MFC | 19332 |
632 | [Q]플라즈마 생성위한 자유전자라는게 뭐죠? | 19319 |
631 | scattering cross-section, rf grounding에 관한 질문입니다. [2] | 19213 |
630 | 질문이 몇가지 있읍니다. [1] | 19192 |
화학 반응에 대해서는 전북대학교 임연호 교수님 (화공전공) 혹은 성균관 대학교 염근영 교수님 연구실로 문의해 보시는 것을 추천드립니다.
마지막 질문은 대기압과 진공상태에서 플라즈마를 만들었을 경우를 의미하는 것이라면, 일단 압력이 높으면 플라즈마 생성이 매우 어렵고 충돌로 인해 이온의 방향성이 매우 좋지 않습니다. 따라서 이온의 방향성 제어를 필요로 하는 식각 공정등에서는 낮은 압력을 사용하게 됩니다. 일반적으로 중성-전자 평균 충돌 거리를 기준으로 반응기 혹은 대상 시편 크기를 비교해서 충돌성의 크기 여부를 판단하기도 합니다. 따라서 위의 질문이 플라즈마 공정이라면 당연히 운전 압력이 공정에 미치는 영향은 매우 큽니다.