Sheath CVD 공정에서의 self bias

2021.06.13 19:47

박관호 조회 수:3032

안녕하세요 반도체 제조업에서 설비업무 맡고있는 저년차 사원입니다.

 

self bias 현상이 일어나게 되는 메커니즘을 3가지정도 배웠습니다.

1. RF 관점에서 순전류는 0이어야하기 때문에 더 크고 무거운 ion을 끌어오기 위해서 전극의 전위가 낮아지는 효과

2. 전극의 크기 차이로 인한 전자의 축적으로 전극의 전위가 낮아지는 효과

3. blocking capacitor에서의 전자의 축적으로 전극의 전위가 낮아지는 효과

 

실제로 CVD chamber 내 shower head보다 heater의 크기가 작고 blocking capacitor의 존재로 2번, 3번은 납득이 됩니다..

 

사내 semina에서 배우기로는 ETCH 설비와 다르게 CVD 설비는 shower head에 RF가 인가되고 heater쪽이 접지로 연결되어 있다고 했는데..

그렇다면 1번 효과에 의해 heater가 아니라 shower head쪽 전극이 음극역할을 하게 되는건가요???

(http://pal.snu.ac.kr/index.php?mid=board_qna_new&document_srl=81598 에서의 답변 참고했습니다)

 

만약 맞다면, 2번,3번 효과의 경우 heater쪽 전위가 낮아지게 되는걸로 보이는데, 1번에 의한 효과와 서로 경쟁하는건가요????

 

학부출신으로 회사와서 아는건 없고 궁금한건 많은데 얕게 배운 지식으로 업무와 연관지으려 하니 힘이드네요 교수님..

많이 배워가고 있습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76539
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20076
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68613
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91695
132 플라즈마 압력에 대하여 [1] 2716
131 질문있습니다. [1] 2544
130 plasma etching을 관련 문의드립니다. [1] 2423
129 RF/LF에 따른 CVD 막질 UNIFORMITY [1] 2340
128 플라즈마 세라믹코팅후 붉은 이유는? 2318
127 RF frequency와 다른 변수 상관관계 질문 2274
126 부도체를 타겟으로 한 플라즈마 형성 원리 [1] 2225
125 플라즈마볼 제작시 [1] file 2214
124 양극 코로나 방전에 대한 질문입니다. [1] 2162
123 N2 Plasma 상태에 대해서 질문 드립니다. [1] 2115
122 플라즈마 관련 기초지식 [1] 2092
121 플라즈마 self bias 값과 압력, 파워의 상관관계에 대해 질문이 있습니다. [1] 2089
120 CVD (CCP) 공정의 Chamber seasoning과 플라즈마 밀도 [1] 1949
119 ICP power와 ion energy사이의 관계에 대해서 문의드립니다. [2] 1943
118 LF Power에의한 Ion Bombardment [2] 1943
117 플라즈마 띄울때..ㅠㅠ!!? [1] 1923
116 쉬스(sheath)에서 전자와 이온의 감소 관련하여 질문 [1] 1878
115 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 답변 정말 감사합니다! 1855
114 플라즈마 실험을 하고 싶은 한 고등학생입니다.... [1] 1776
113 플라즈마 입자 운동 원리(전자기장에서) [1] 1734

Boards


XE Login