Etch 안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다.

2017.09.09 21:02

Hygoo 조회 수:1141

안녕하세요~ ETCH ENG'r 입니다.

몇가지 질문 드리려 가입했습니다.

1. W ETCH 시에 SF6 GAS를 이용하게 되는데 이 경우 WFx의 Radical이 발생하게 됩니다. 이 Radical이 특히 Chamber내에 Polymer를 많이 발생시키는 건지 궁금합니다. (옛날 논문을 참고해보면 이 공정 자체가 더러운 공정이라는 말이 있어서요..)

2. W ETCH 후 ISD 진행시에 NF3 Gas를 사용하는데 이게 어떤 반응식을 통해 Paticle 제거 효과를 보는건지 궁금합니다.

답변 달아주시면 감사하겠습니다.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76727
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20183
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57167
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68699
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92278
649 ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [1] 833
648 SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문 [1] 4147
647 MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [1] 1117
646 Tungsten 표면 Contamination 제거(실명재등록) [1] 973
645 plasma 형성 관계 [1] 1514
644 RF matcher와 particle 관계 [2] 2918
643 Bias 관련 질문 드립니다. [1] 3411
642 Sheath 길이와 전자의 온도 및 MFP간의 관계에 대해 질문 드립니다. [1] 4806
641 Al Dry Etch 후 잔류 Cl 이온 제어를 위한 후처리 방법 [1] 2010
640 식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 [1] 1113
639 임피던스 매칭 및 플라즈마 진단 [1] 1270
638 Plasma 식각 test 관련 문의 [1] 3964
637 RF 전압과 압력의 영향? [1] 1676
636 Plasma Cleaning 관련 문의 [1] 1345
635 Uniformity 관련하여 문의드립니다. [1] 1167
634 standing wave effect에 대한 질문이 있습니다. [1] 1605
633 ICP 대기압 플라즈마 분석 [1] 714
632 RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [1] 2313
631 IMPEDANCE MATCHING PATH에서 S/H ~ MATCHER 간 전력전송 방법들에 대해 문의드립니다. [2] 1514
630 안녕하세요 DBD 플라즈마 소독 관련질문입니다. [1] 450
쓰기
태그

Boards

XE Login