Etch 식각 시 나타나는 micro-trench 문제

2019.03.28 15:12

안골 조회 수:1982

안녕하세요? 식각에 관해 공부하고 있는 대학원생입니다.


요즘 plasma etching 에 관한 리뷰를 보는 중 식각 시 나타나는 etch profile의 distortion에 관해서 써놓은 내용을 보았습니다.

특히, Si 공정 중 micro-trench 현상이 일어나고, 그대로 소자가 만들어 졌을 때에 소자 상에서 어떤 문제가 일어나는지 궁금합니다. 

리뷰에 달린 참고문헌을 봐도 distortion에 대한 메커니즘만 설명되어 있고, 실제 소자상에서는 어떤 문제가 있는지 다뤄지지가 않아 너무 궁금합니다...

혹시 이에 대한 문헌이나, 참고할만한 자료가 있으면 답변 부탁드리겠습니다.

감사합니다.


참고한 문헌 : Donnelly, V. M., & Kornblit, A. (2013). Plasma etching: Yesterday, today, and tomorrow. Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films, 31(5), 050825.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76726
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20181
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57167
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68697
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92276
649 ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [1] 833
648 SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문 [1] 4147
647 MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [1] 1117
646 Tungsten 표면 Contamination 제거(실명재등록) [1] 973
645 plasma 형성 관계 [1] 1513
644 RF matcher와 particle 관계 [2] 2917
643 Bias 관련 질문 드립니다. [1] 3411
642 Sheath 길이와 전자의 온도 및 MFP간의 관계에 대해 질문 드립니다. [1] 4805
641 Al Dry Etch 후 잔류 Cl 이온 제어를 위한 후처리 방법 [1] 2009
640 식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 [1] 1112
639 임피던스 매칭 및 플라즈마 진단 [1] 1270
638 Plasma 식각 test 관련 문의 [1] 3964
637 RF 전압과 압력의 영향? [1] 1676
636 Plasma Cleaning 관련 문의 [1] 1345
635 Uniformity 관련하여 문의드립니다. [1] 1167
634 standing wave effect에 대한 질문이 있습니다. [1] 1605
633 ICP 대기압 플라즈마 분석 [1] 714
632 RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [1] 2311
631 IMPEDANCE MATCHING PATH에서 S/H ~ MATCHER 간 전력전송 방법들에 대해 문의드립니다. [2] 1514
630 안녕하세요 DBD 플라즈마 소독 관련질문입니다. [1] 450
쓰기
태그

Boards

XE Login