Sputtering 부가적인 스퍼터링 관련 질문 드립니다.
2019.03.04 10:48
안녕하세요.
PECVD로 탄소 박막을 합성하고, 표면을 Oxide 시키기 위해 plasma asher로 200W/30 min 동안
처리하였는데 반응이 없어 다른 방법을 모색중입니다.
그래서 스퍼터로 가능할까 싶어서 궁금증을 여기에 풀어 봅니다.
보통 O2/N2는 반응성 스퍼터링에 사용되는 것으로 알고 있습니다.
혹시나, (1) Ar 대신 O2 or N2만 주입해도 플라즈마가 형성이 가능한가요?
그리고 (2) 타겟없이도 플라즈마가 뜨는가요?
이 두 부분이 궁금합니다.
생뚱맞는 질문일수도 있지만,
답변 부탁드립니다.
감사합니다.
댓글 1
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] | 76677 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20152 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57151 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68672 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92186 |
| 647 | RF 주파수에 따른 차이점 [1] | 691 |
| 646 | 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다 [1] | 693 |
| 645 | 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [2] | 694 |
| 644 | 정전척의 chucking voltage 범위가 궁금합니다. [1] | 696 |
| 643 | CF3의 wavelength가 궁금해서 질문드립니다. [1] | 702 |
| 642 | 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] | 706 |
| 641 | 플라즈마를 통한 정전기 제거관련. [1] | 706 |
| 640 | 코로나 전류가 0가까이 떨어지는 현상 [1] | 709 |
| 639 | 플라즈마 진단 OES 관련 질문 [1] | 711 |
| 638 | ICP 대기압 플라즈마 분석 [1] | 712 |
| 637 | RF Frequency 가변과 FORWARD POWER의 상관관계 [2] | 716 |
| 636 | ICP 후 변색 질문 | 723 |
| 635 | 안녕하세요. Plasma etch rate에 관하여 질문이 있습니다. [1] | 723 |
| 634 | Ion과 Radical의 이동 거리 및 거리에 따른 농도와 증착 품질 관련 [1] | 734 |
| 633 | O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. | 734 |
| 632 | center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 [1] | 734 |
| 631 | 교수님 질문이 있습니다. [1] | 740 |
| 630 | 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다 [2] | 751 |
| 629 | OES를 이용한 Gas Species 정량적 분석 방법 [1] | 752 |
| 628 | RPS를 이용한 유기물 식각장비 문의 [1] | 753 |