Plasma in general RF 전압과 압력의 영향?
2021.12.06 14:03
안녕하세요 교수님. 항상 친절한 답변 감사드립니다.
회사를 다니면서 공부를 하다보니 제가 부족한 부분이 많아 자꾸 찾아뵙게 되네요.
현재 염근영 교수님의 '플라즈마 식각기술' 이라는 책을 공부하고 있는데요.
읽다보니 간단한것 같은데 이유를 모르겠는게 있어서 문의 드립니다.
Pressure가 공정에 미치는 영향 중에 압력이 낮아지면 rf voltage가 높아진다고 나와있는데 그 이유가 궁금합니다.
그리고 이 전압이라함은 플라즈마와 전극 사이의 전압을 말하는건가요?
제가 전기쪽으로는 지식이 많이 부족해서 헷갈립니다 ㅜㅜ
감사합니다!
댓글 1
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] | 76683 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20152 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57155 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68675 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92189 |
| 647 | RF 주파수에 따른 차이점 [1] | 692 |
| 646 | 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다 [1] | 693 |
| 645 | 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [2] | 694 |
| 644 | 정전척의 chucking voltage 범위가 궁금합니다. [1] | 697 |
| 643 | CF3의 wavelength가 궁금해서 질문드립니다. [1] | 702 |
| 642 | 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] | 706 |
| 641 | 플라즈마를 통한 정전기 제거관련. [1] | 706 |
| 640 | 코로나 전류가 0가까이 떨어지는 현상 [1] | 709 |
| 639 | ICP 대기압 플라즈마 분석 [1] | 712 |
| 638 | 플라즈마 진단 OES 관련 질문 [1] | 712 |
| 637 | RF Frequency 가변과 FORWARD POWER의 상관관계 [2] | 718 |
| 636 | ICP 후 변색 질문 | 723 |
| 635 | 안녕하세요. Plasma etch rate에 관하여 질문이 있습니다. [1] | 723 |
| 634 | Ion과 Radical의 이동 거리 및 거리에 따른 농도와 증착 품질 관련 [1] | 734 |
| 633 | O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. | 734 |
| 632 | center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 [1] | 735 |
| 631 | 교수님 질문이 있습니다. [1] | 740 |
| 630 | 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다 [2] | 751 |
| 629 | RPS를 이용한 유기물 식각장비 문의 [1] | 753 |
| 628 | OES를 이용한 Gas Species 정량적 분석 방법 [1] | 753 |