CCP 에쳐장비HF/LF 그라운드 관련
2020.01.02 18:46
안녕하십니까?
이전에 에쳐장비 관련 장비메이져 회사에서 근무한 경험이 있습니다.
그당시, 에쳐장비에서 HF/LF가 RF가 인가가 되는데,
그라운드 링이라는 하드웨어가 상부전극 주위 즉 Deposhield윗 공간에 존재를 하였습니다.
에쳐장비에서 RF관련 그라운드를 어떻게 잡는지가 궁금합니다.
(그라운드를 잡지않으면, 아킹이나 노이즈 등의 위험이 있다고 생각합니다.)
확인 및 답변 부탁드립니다.
새해 복 많이 받으시고, 행복한 한해 되십시오.
감사합니다.
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] | 76727 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20183 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57167 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68699 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92278 |
| 649 | 반도체 METAL ETCH 시 CH4 GAS의 역할. [1] | 681 |
| 648 | 플라즈마 진단 공부중 질문 [1] | 687 |
| 647 | 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [2] | 694 |
| 646 | 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다 [1] | 696 |
| 645 | RF 주파수에 따른 차이점 [1] | 700 |
| 644 | 정전척의 chucking voltage 범위가 궁금합니다. [1] | 701 |
| 643 | CF3의 wavelength가 궁금해서 질문드립니다. [1] | 705 |
| 642 | 플라즈마를 통한 정전기 제거관련. [1] | 707 |
| 641 | 코로나 전류가 0가까이 떨어지는 현상 [1] | 709 |
| 640 | 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] | 711 |
| 639 | ICP 대기압 플라즈마 분석 [1] | 714 |
| 638 | 플라즈마 진단 OES 관련 질문 [1] | 717 |
| 637 | ICP 후 변색 질문 | 725 |
| 636 | 안녕하세요. Plasma etch rate에 관하여 질문이 있습니다. [1] | 726 |
| 635 | Ion과 Radical의 이동 거리 및 거리에 따른 농도와 증착 품질 관련 [1] | 736 |
| 634 | O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. | 737 |
| 633 | RF Frequency 가변과 FORWARD POWER의 상관관계 [2] | 742 |
| 632 | 교수님 질문이 있습니다. [1] | 745 |
| 631 | center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 [1] | 749 |
| 630 | 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다 [2] | 755 |
상기관련, 에쳐장비에서 HF/LF의 기본적으로 접지를 잡는방법이 궁금합니다.
또한 그라운드관련 그라운드 기능을 하는 하드웨어파트가 없어도, 큰 무리는 없는지 궁금합니다.
확인 부탁드립니다.
감사합니다.