CCP 에쳐장비HF/LF 그라운드 관련
2020.01.02 18:46
안녕하십니까?
이전에 에쳐장비 관련 장비메이져 회사에서 근무한 경험이 있습니다.
그당시, 에쳐장비에서 HF/LF가 RF가 인가가 되는데,
그라운드 링이라는 하드웨어가 상부전극 주위 즉 Deposhield윗 공간에 존재를 하였습니다.
에쳐장비에서 RF관련 그라운드를 어떻게 잡는지가 궁금합니다.
(그라운드를 잡지않으면, 아킹이나 노이즈 등의 위험이 있다고 생각합니다.)
확인 및 답변 부탁드립니다.
새해 복 많이 받으시고, 행복한 한해 되십시오.
감사합니다.
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] | 76712 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20168 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57164 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68690 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92259 |
| 628 | ESC 표면 온도랑 식각률의 차이가 어떤 관계로 있는걸까요?? [1] | 2003 |
| 627 | ICP와 CCP는 단순히 플라즈마를 생서하는 방법인가요? [1] | 8713 |
| 626 | CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요? [3] | 3527 |
| 625 | ESC Dechuck과 관련하여 궁금한점이 있어 문의를 드립니다. [1] | 14777 |
| 624 | CVD 막질의 성질에 대해 질문드립니다. [1] | 1330 |
| 623 | 전자 온도에 대한 질문이 있습니다. [1] | 1011 |
| 622 | RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때 [1] | 862 |
| 621 | CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [1] | 2269 |
| 620 | 데포 중 RF VDC DROP 현상 [1] | 1533 |
| 619 | OES 분석 관련해서 질문드립니다. [1] | 1363 |
| 618 | CF3의 wavelength가 궁금해서 질문드립니다. [1] | 703 |
| 617 | anode sheath 질문드립니다. [1] | 982 |
| 616 | 안녕하세요. Plasma etch rate에 관하여 질문이 있습니다. [1] | 723 |
| 615 | 플라즈마를 통한 정전기 제거관련. [1] | 707 |
| 614 | RF 케이블 발열 현상관련 문의 드립니다. | 1455 |
| 613 | CVD (CCP) 공정의 Chamber seasoning과 플라즈마 밀도 [1] | 1983 |
| 612 | 라디컬의 재결합 방지 [1] | 788 |
| 611 | LF Power에의한 Ion Bombardment [2] | 2010 |
| 610 | PECVD와 RIE의 경계에 대해 [1] | 1447 |
| 609 |
전자 온도 구하기
[1]  | 1128 |
상기관련, 에쳐장비에서 HF/LF의 기본적으로 접지를 잡는방법이 궁금합니다.
또한 그라운드관련 그라운드 기능을 하는 하드웨어파트가 없어도, 큰 무리는 없는지 궁금합니다.
확인 부탁드립니다.
감사합니다.