Others Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다.
2020.06.08 18:29
안녕하십니까 교수님
공정 실습 중 Dechucking 이슈에 대해 궁금증이 있어 이렇게 글을 남깁니다.
제가 확인한 이슈는 dechucking 이후 핀업 진행 시 웨이퍼가 슬라이딩 하는 문제였는데, 해당 이슈에 대해 config값을 (0->5)변경하여 He flow가 되도록 조치했다는 것을 알았습니다.
chucking 과정중 He의 역할이 온도를 낮추는 역할 정도로 알고 있는데, He 가스가 chucking에서 어떤 역할들을 하는지 궁금합니다.
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] | 76692 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20152 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57159 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68681 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92218 |
627 | ICP와 CCP는 단순히 플라즈마를 생서하는 방법인가요? [1] | 8710 |
626 | CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요? [3] | 3523 |
625 | ESC Dechuck과 관련하여 궁금한점이 있어 문의를 드립니다. [1] | 14774 |
624 | CVD 막질의 성질에 대해 질문드립니다. [1] | 1326 |
623 | 전자 온도에 대한 질문이 있습니다. [1] | 1011 |
622 | RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때 [1] | 860 |
621 | CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [1] | 2263 |
620 | 데포 중 RF VDC DROP 현상 [1] | 1533 |
619 | OES 분석 관련해서 질문드립니다. [1] | 1357 |
618 | CF3의 wavelength가 궁금해서 질문드립니다. [1] | 702 |
617 | anode sheath 질문드립니다. [1] | 979 |
616 | 안녕하세요. Plasma etch rate에 관하여 질문이 있습니다. [1] | 723 |
615 | 플라즈마를 통한 정전기 제거관련. [1] | 706 |
614 | RF 케이블 발열 현상관련 문의 드립니다. | 1455 |
613 | CVD (CCP) 공정의 Chamber seasoning과 플라즈마 밀도 [1] | 1978 |
612 | 라디컬의 재결합 방지 [1] | 788 |
611 | LF Power에의한 Ion Bombardment [2] | 2002 |
610 | PECVD와 RIE의 경계에 대해 [1] | 1443 |
609 | 전자 온도 구하기 [1] | 1123 |
608 | 공정 진행 중 의도적인 섭동 효과에 대해서 질문 드립니다. [1] | 319 |
성균관 대학교 김태성교수님 연구실로 문의하시면 좋은 답변을 구하실 수 있을 것 같습니다. chucking/dechucking에서 생성될 수 있는 파티클 제어까지 고려해야 할 것 같습니다.