Plasma 에서 Coupled (결합) 의 의미
2017.12.17 01:31
안녕하세요.
반도체 assembly 회사에서 근무하고 있습니다.
ICP / CCP 에서 coupled (결합) 란 의미가 plasma 관점에서 정확히 무엇인지 알수 있나요?
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] | 76540 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20076 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57115 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68615 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 91696 |
623 | Collisional mean free path 문의... [1] | 775 |
622 | 플라즈마 용어 질문드립니다 [1] | 776 |
621 | 라디컬의 재결합 방지 [1] | 779 |
620 | 새집 증후군 없애는 플러스미 - 플라즈마에 대해서 [1] | 782 |
619 | 플라즈마 충격파 질문 [1] | 785 |
618 | 플라즈마용사코팅에서의 carrier gas [1] | 789 |
617 | Si Wafer에 Plasma를 처리했을때 정전기 발생 [1] | 790 |
616 | DBD Plasma Actuator 원리에 대한 질문입니다. [1] | 792 |
615 | ECR ion source에서 plasma가 켜지면 RF reflect가 심해집니다. [2] | 792 |
614 | RF 파워서플라이 매칭 문제 | 799 |
613 | 방전수 활성종 중 과산화수소 측정에 관련하여 질문드립니다. [1] | 809 |
612 | 플라즈마 장치 관련 기초적 질문입니다. [1] | 818 |
611 | ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [1] | 825 |
610 | RF 전압인가 시 LF와 HF 에서의 Sheath 비교 [1] | 831 |
609 | 연면거리에 대해 궁금합니다. [1] | 832 |
608 | RIE 공정시에 형성되는 두 효과를 분리해 보고 싶습니다. [1] | 835 |
607 | 매쳐 출력값 검토 부탁 드립니다. [1] | 835 |
606 | PPV(플라즈마 용융 유리화)에 관해 질문드립니다. [1] | 840 |
605 | 안녕하세요 플라즈마의 원초적인 개념에서 궁금한 점이 생겨서 질문드립니다. [1] | 842 |
604 | RF MATCHING 관련 교재 추천 부탁드립니다 [1] | 847 |
플라즈마 소스에서 coupled의 의미는 plasma 생성에 필요한 전자 가열을 위한 에너지 전달을 의미합니다. 즉 에너지 전달 메카니즘으로, inductively coupled 란 Faraday's induction law로 부터 시간 변화 자기력에 의한 기전력이 전가 가속을 시킴을 의미하며, capacitively coupled 의 의미는 diode 형태의 전극 사이에 형성되는 전기장으로 부터 전자 가속이 이뤄짐을 의미합니다. 이들 coupling 영역은 ICP에서는 skin depth 내에서, CCP에서는 sheath 경계에서 발생합니다. 아울러 인가 전력은 플라즈마 공간 내에서 Joule 가열로도 사용이 되므로, power coupling을 고려하면 전자 가열+줄 가열의 크기를 종합하여, 인가 전력의 플라즈마로의 전력 전달을 의미하는 표현이라 할 수 있고, 그 효율에 대해서 보다 관심을 크게 갖게 됩니다. 본 게시판에서 CCP/ICP/ plasma breakdown 등의 내용을 살펴 보시기 바랍니다.