안녕하세요, 저는 플라즈마 응용연구실에서 공부하고있는 우병준 이라고 합니다.

 

 plasma modeling 에 대해서 공부를 하던 도중, 

 

SIOC 박막을 CF4 plasma 를 이용해서 식각하는 과정에서, plasma modeling 이 들어가게 되었는데,

 

Langmuir probe 의 ion density 와 Te 를 갖고 F 의 flux 를 계산하는 방법을 알아내기 위해 여러 논문을 서칭했습니다만, 감이 잘 잡히지 않아서 어려움을 겪고있습니다.

 

0-dimension plasma modeling 을 하기 위해서 고려해야하는 reaction table 의 여러 반응들을 어떻게 기준을 잡아야하는지 잘 모르겠습니다.

 

예를들어, F의 flux 를 결정하는 조건들이 있을텐데 그 조건에 대한 기준을 어떻게 잡아야하는지 모르겠습니다.

 

다른 논문에서 진행했던 방식을 그대로 가져와서 하는건지, 아니면 제가 modeling 의 기준을 잡아야하는건가요 ? 

 

처음하는 분야이다 보니 많이 막막해서, 어떤 방향으로 공부를 해 나가야할지 모르겠어서 질문드립니다..! 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [313] 79242
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 21261
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 58063
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69622
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 94408
763 skin depth에 대한 이해 [Stochastic heating 이해] [1] 316
762 CCP장비 discharge 전압 및 전류 측정 방법 과 matcher 문제 관하여 [HV probe 전압 측정] [2] file 317
761 Cu migration 방지를 위한 스터디 [전자재료] [1] 323
760 gas에 따른 deposition rate 및 저항질문 있습니다 [박막 문제] [1] 343
759 CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [식각 교재 참고] [1] file 347
758 공정 진행 중 의도적인 섭동 효과에 대해서 질문 드립니다. [Rise rate] [1] 360
757 RIE 설비 관련 질문 좀 드려도 될까요? [RF matcher noise] [1] 363
756 RF 스퍼터 관련 질문이 있습니다. [장비 분해 리빌트 및 테스트] [1] 369
755 Etch Plasma 관련 문의 건.. [RF 주파수와 플라즈마 주파수] [1] 369
754 Plasma 장비 소재 특성 관련하여 문의드립니다. [DC breakdown 및 sheath] [1] 370
753 E-field plasma simulation correlating with film growth profile [플라즈마 확산과 밀도 분포] [1] 378
752 Massbalance equation 에서 P(t) 유도과정 380
751 RIE Gas 질문 하나 드려도 될까요? [Sheath instability] [1] 389
750 메틸기의 플라즈마 에칭반응 메커니즘 [공정 플라즈마] [1] 392
749 RF sputter 증착 문제 질문드립니다. [OES 진단과 sputter yield] [1] file 398
748 플라즈마 에너지가 온도를 높혀주는 역할 [전자 충돌 현상 및 입자 충돌 현상] [1] 398
747 입자에너지에따른 궤도전자와 핵의 에너지loss rate file 401
746 ICP에서의 Self bias 효과 [DC offset voltage와 floating potential] [1] 414
745 chamber에 인가되는 forward power 관련 문의 [송전선로 모델 및 전원의 특성] [1] 416
744 Non-maxwellian 전자 분포의 원인 [Druyvesteyn distribution 이해] [1] 429

Boards


XE Login