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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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Co-relation between RF Forward Power and Vpp [RF ground]
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연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [Plasma information과 monitoring]
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681 |
플라즈마 기본 사양 문의 [형광등 동작 원리]
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프리쉬스에 관한 질문입니다. [Ambipolar diffusion 및 collisionless sheath]
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CCP RIE 플라즈마 밀도 [Global model, Plasma generation, Ionization collision]
[1] | 667 |
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챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [플라즈마 생성, Plasma collision reaction]
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677 |
전공수준에 따른 RF plasma 영향 관련 질문 [Ion beam source]
[1] | 680 |
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676 |
Edge ring의 역할 및 원리 질문 [플라즈마 밀도 및 전위 제어]
[1] | 685 |
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Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [Sheath 전기장 및 instability]
[1] | 687 |
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기판표면 번개모양 불량발생 [Plasma charging]
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Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time [TVP(Thorottle Valve Position)]
[1] | 694 |
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OES 파장 관련하여 질문 드립니다. [데이터+플라즈마광학 모델]
[1] | 707 |
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OES를 통한 공정 개선사례가 있는지 궁금합니다. [플라즈마의 분포와 공정 진단]
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RPC ClEAN시 THD 발생 [RF shield와 ground의 강화]
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RF Sputtering Target Issue [Sputtering]
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ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [RF 접지 및 체결, 결합부분 교체]
[1] | 729 |
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667 |
주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 [Plasma heating]
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666 |
PECVD Uniformity [플라즈마 균일도 제어]
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665 |
플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [Plasma torch와 cyanide]
[2] | 745 |
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[재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [플라즈마 식각기술]
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