안녕하세요, 저는 대학원에서 이제 막 스퍼터링 관련 연구를 시작하게 된 학생입니다.

 

작은 진공 챔버만 있고 아무것도 없는 상태에서 가장 기본적인 스퍼터링 시스템을 만들고자 하는데요, Fluoride (LaF3, YF3 등)를 스퍼터링을 할 때에 안전에 대한 조언을 부탁드리고자 글을 남깁니다. 스퍼터링 시스템을 동작시키는 여러 프로시져 등은 여러군데서 찾아볼 수 있지만, 그 이전에, 실험 환경의 안전 시스템은 어느정도로 구축해야될 지 가늠이 서질 않습니다.

 

예를 들어 Ar 가스를 사용하여 약 지름이 5cm인 YF3 원형 타겟을 스퍼터한다고 가정을 하면, 

1. 타겟으로부터 F와 Yttrium 성분이 경우에 따라 어떤 형태로 떨어져나올 수 있는지, (일반적으로 Ar양이온이 충돌하여 YF3화합물의 형태로 그대로 떼어낼 것 같으나, 만약 어떠한 이유로 F가 별도로 분리되는? 그런경우도 있을 수 있을까요?)

2. 그 외 어떠한 이유로 F성분이 챔버 Leak이나 펌프 배기 등의 문제로 밖으로 샐 경우에 인체에 해를 심각하게 가할 정도가 될 수도 있는 지,

 

위 2가지와 관련해서 전문가의 조언을 좀 구할 수 있을까요? 아무래도 Fluorine성분이 있다보니 마음에 걸립니다.

관련 안전 담당부서와 논의를 할 것이긴 합니다만 전문성이 부족할 수도 있을 것을 대비해서 조언을 부탁드립니다. 참고로, 연구실에는 챔버 1개용으로 충분한 Fumehood와 일반적인 반도체회사에서 사용하는 호흡기와 필터정도는 있습니다.

 

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [85] 2361
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 12949
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 49619
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 61116
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 79622
659 플라즈마 세정처리한 PCB, Lead Frame 재활용 방법 28
658 N2 / N2O Gas 사용시 Plamsa 차이점 65
657 Co-relation between RF Forward power and Vpp [2] 72
656 etch defect 관련 질문드립니다 90
655 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [1] file 107
654 구 대칭으로 편광된 전자기파를 조사할 때에 대한 질문입니다. [1] file 110
653 RF Antena와 Matcher 間 상관관계 문의드립니다. [2] 140
652 공정 진행 중 의도적인 섭동 효과에 대해서 질문 드립니다. [1] 147
651 안녕하세요 DBD 플라즈마 소독 관련질문입니다. [1] 147
650 SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문 [1] 157
649 doping type에 따른 ER 차이 [1] 165
648 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] 179
647 플라즈마 세정 장비 (CCP구조)에서 자재 로딩 수에 따른 플라즈마 효과 및 Discolor [1] file 182
646 H-field 측정위치에 따른 H Field MAP 변화 관련 [1] 204
645 MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [1] 208
644 ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [1] 208
643 자외선 세기와 결합에너지에 대해 질문드립니다. [1] 218
642 KM 모델의 해석에 관한 질문 [1] 221
641 타겟 임피던스 값과 균일도 문제 [1] 222
» Fluoride 스퍼터링 시 안전과 관련되어 질문 [1] 233

Boards


XE Login