안녕하세요 Plasma를 이용하여 ALD 실험을 진행하고 있는 대학원생입니다.

 

다름이 아니라 어느 순간부터 plasma를 발생시키게 되었을 때 처음 발생시킬 때에는 플라즈마 빛의 세기도 매우 강하고 잘 생성이 된다고 생각이 들었는데 그 이후로 발생시킬 때는 플라즈마의 색깔도 조금 변하고 세기가 많이 약해집니다.

 

NH3, N2 plasma를 최근 이용하였을 때 계속해서 그러한 현상이 일어나고 있습니다.

 

이러한 현상에 대해서 혹시 원인을 알고 계셔서 알려주신다면 정말 감사드립니다 ㅠㅠ

 

아님 개인적인 소견이라도 말씀해주시면 정말 큰 도움이 될 것 같습니다 ㅠㅠ

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [220] 75421
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19154
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 56478
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 67552
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 89355
748 LXcat Dataset에 따른 Plasma discharge 에 대한 질문입니다. [1] 60
747 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 2 63
746 RIE Gas 질문 하나 드려도될까요? [1] 79
745 GWP(Global warming potential)에 따른 Etch gas 변화에 대한 질문 [1] 80
744 RF Frequency 가변과 FORWARD POWER의 상관관계 [1] 85
743 RF 스퍼터 관련 질문이 있습니다. [1] 88
742 화장품 원료의 플라즈마 처리 문의 [1] file 105
741 RF sputter 증착 문제 질문드립니다. [1] file 114
740 RIE 설비 관련 질문 좀 드려도 될까요? [1] 120
739 실리콘 수지 코팅 Tool에 Plasma 클리닝 시 코팅 제거 유/무 [1] 123
738 플라즈마 제균 탈취 가능 여부 [1] 123
737 corona model에 대한 질문입니다. [1] 126
736 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 [1] 129
735 PECVD 고온 공정에서 증착 막으로의 열전달 관련 문의드립니다. [1] 134
734 플라즈마 전원 공급장치에 대한 질문 [1] 134
733 메틸기의 플라즈마 에칭 반응 메커니즘 [1] 136
732 Plasma 표면개질에 대해 질문드립니다. [1] 141
731 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 141
730 Compressive한 Wafer에 대한 질문 [1] 143
729 plasma off시 일어나는 현상 문의드립니다 [1] 143

Boards


XE Login