안녕하세요 현재 반도체 기업에서 종사하고 있는 엔지니어입니다.

Plannar ICP Plasma를 이용한 Etch chamber를 운용중인데 Particle 제어에 대한 연구를 하다보니 ICP Etch chamber에서 Dome(Ceramic cover)의 역할에 대한 궁금증이 생깁니다.

 

먼저저희가 운용하고 있는 chamber의 Ceramic cover의 구조는 Dome형을 가지고 있습니다.

Particle이 생기는 1차적인 원인을 Ceramic cover에서 떨어지는 낙성으로 추측을 하고 있는데 여기서 Material, 구조 관점에서 궁금증이 생깁니다.

 

1. ICP plamsa에서 Ceramic 재질의 Cover를 사용해야하는 이유 

2. S/H와 같이 평형한 구조가 아닌 Dome 형의 구조를 가졌을 때 가지는 장점이 있는지 (ex ICP Plasma를 구현할 때 Chamber의 길이 에 따라 Wafer에 가해지는 Ar 플라즈마 입자의 직진성 향상에 유리한 점이 있다던지...)

 

도움 부탁드립니다.

감사합니다!

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