안녕하세요 교수님.

Display 회사에서 근무중인 김민철입니다.

제가 질문드리고자 하는 내용은 a-Si표면에 N2 Blowing Ionizer 사용 시 어떤 반응이 생기는지에 대해 궁금증이 있어 문의드립니다.

Display 공정 중 Excimer laser annealing 전에 Ionizer를 진행 하는데 이때 정전기 제거가 아닌 다른 영향을 줄 수 있는가에 대해 연구중입니다.

아래 다른 게시글을 참조해보니 N2 Ionizer 사용 시  N2가 분해되어 (+)이온이된다고 하셨는데 이러한 이온이나  N, O, electron 등이  a-Si 표면에 있는 Si의 dangling bond와 결합을 할수있는 지가 궁금 합니다.

이를 통해 후공정으로 진행하는 Excimer laser annealing을 진행할 때, Si의 결정화에 영향을 미칠지가 궁금합니다.

만약 영향을 줄 수 있다면 Si의 어떤 결합이 생기고 반도체의 성질에 어떤 영향이 있을지요 (ex) 불순물로 인한 Doping 장벽 역활 등등...

논문이나 자료를 찾기위해 플라즈마와 관련하여 검색중에 교수님 이름이 많아 조언 부탁드리게 되었습니다.

바쁘실테지만 상기 내용에 대해서 조언 부탁드립니다.

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76539
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20076
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68613
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91695
543 산소 플라즈마 처리 관하여 질문드립니다. [1] 1143
542 쉬쓰 천이지역에 관한 질문입니다. [1] 1145
541 대학원 진학 질문 있습니다. [2] 1146
540 O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의 file 1146
539 ICP, CCP 그리고 Ion Implantation 공정 관련 질문 드립니다. [1] 1159
538 챔버 임피던스 변화에 따른 공정변화 [1] 1173
537 RF Generator 주파주에 따른 Mathcer Vrms 변화. [1] 1176
536 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [1] 1193
535 micro plasma에 사용되는 전력을 알고 싶습니다. [1] 1204
534 플라즈마 챔버 [2] 1205
533 플라즈마 형성시 하전입자의 밀도와 챔버에 관련해서 질문드립니다. [2] 1210
532 RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [1] 1216
531 플라즈마의 직진성에 관해 질문드립니다. [2] 1232
530 Plasma etch관련 질문이 드립니다. [1] 1234
529 임피던스 매칭 및 플라즈마 진단 [1] 1249
528 플라즈마에서 가속 전압 또는 RF 파워 관련 질문드려요. [1] 1266
527 ICP Chamber Type의 Belljar Arcing관련 문의드립니다. [2] 1267
526 텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [1] 1267
525 플라즈마 기초입니다 [1] 1279
524 [CVD] 막 증착 관련 질문입니다. [4] 1287

Boards


XE Login