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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [Faraday shield]
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플라즈마 관련 교육 [플라즈마 교육자료]
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공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 답변 정말 감사합니다!
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가입인사드립니다.
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Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [ESC와 Chamber impedance]
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IMPEDANCE MATCHING PATH에서 S/H ~ MATCHER 간 전력전송 방법들에 대해 문의드립니다. [접촉 저항]
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터보펌프 에러관련 [터보 펌프 구동 압력]
[1] | 2137 |
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PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [Ar plasma, Ar metastable]
[1] | 2138 |
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plasma 형성 관계 [Paschen's law, 플라즈마 주파수]
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N2, N2O Gas 사용시 Plasma 차이점 [N2 Plasma]
[1] | 2178 |
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ICP lower power 와 RF bias [Self bias, Floating sheath]
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ICP reflecot power [Insulator와 rf leak]
[1] | 2186 |
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압력 변화와 Ch Impedance 상관관계 질문 [플라즈마 임피던스, 운전압력조절 방전 조건]
[1] | 2186 |
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PECVD와 RIE의 경계에 대해 [DC bias 형성 판단]
[1] | 2192 |
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CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다. [Plasma chemistry]
[3] | 2197 |
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유도결합 플라즈마 소스 질문!!!? [전기장 내 입자 거동]
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Matcher 구성에 따른 챔버 임피던스 영향에 대해 문의드립니다. [Matcher와 Plasma Impedence]
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텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [표면 화학 반응]
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13.56MHz resonator 해석 관련 문의 [Resonator의 matching]
[1] | 2227 |
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Langmuir probe의 위치에 관한 질문입니다. [전자 소실 및 플라즈마 전위]
[3] | 2233 |
