Process OLED에서 SF6와 CF4를 사용하는 이유를 알고 싶습니다.

2022.12.07 14:13

반도체좋아 조회 수:17212

안녕하세요.

 

Etching과 Deposition을 같이 최근에 공부를 시작하고 있는 회사원입니다.

다름이 아니라, 

   최근 기사에서 LCD->OLED로 넘어가는 과정에서 OLED 특성상(유기발광체 때문??) SF6를 NF3로 대체가 어렵다는

   내용의 기사를 봤습니다.

 

질문은

   1. OLED에서 SF6는 어느공정(Etching / Chamber Cleaning / ??)에 주로 사용되나요?

   2. SF6를 NF3로 대체할 수 있는 이유는 뭔가요?

   3. CF4도 사용되는 것으로 아는데, 어느공정에 주로 사용되나요?

 

고수님들의 답변 부탁드립니다.

가지고 계신 문헌과 특허라도 알려주시면 크게 감사드립니다.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [160] 73027
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 17616
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 55516
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 65696
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 86027
686 RF 전압인가 시 LF와 HF 에서의 Sheath 비교 [1] 280
685 플라즈마 세정처리한 PCB, Lead Frame 재활용 방법 [1] 282
684 RF Sputtering Target Issue [2] file 282
683 진공수준에 따른 RF plasma 영향 관련 질문 [1] file 287
682 Polymer Temp Etch [1] 291
681 RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계 [1] file 298
680 Massbalance equation 에서 P(t) 유도과정 311
679 OES를 이용한 Gas Species 정량적 분석 방법 [1] 312
678 타겟 임피던스 값과 균일도 문제 [1] 315
677 주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 [1] 315
676 Chamber impedance 범위에 대해 질문드립니다. 325
675 염소발생 전기분해 시 스파크 발생에 관해 질문드립니다. [1] file 327
674 H-field 측정위치에 따른 H Field MAP 변화 관련 [1] 327
673 Fluoride 스퍼터링 시 안전과 관련되어 질문 [1] 332
672 입자에너지에따른 궤도전자와 핵의 에너지loss rate file 337
671 KM 모델의 해석에 관한 질문 [1] 343
670 VPS 공정에서 압력변수관련 질문입니다. [1] 343
669 Sticking coefficient 관련 질문입니다. [1] 349
668 자외선 세기와 결합에너지에 대해 질문드립니다. [1] 362
667 크룩수의 음극선도 플라즈마의 현상인가요? [1] 363
쓰기
태그

Boards

XE Login