Plasma in general RF sputter 증착 문제 질문드립니다. [OES 진단과 sputter yield]
2023.07.28 00:34
안녕하세요 지난 번 질문 드렸던 디스플레이 관련 대학원생입니다.
현재는 RF sputter의 MFC 및 power 등은 정상 작동하며 Ar 플라즈마까지 보라빛을 잘 띄고 있습니다.
문제는 플라즈마는 뜨는데 증착이 전혀 진행이 되지 않습니다.
Al을 타겟으로 사용하고 있는데 타겟의 문제가 있는가 싶어 새 것으로 교체해 보았지만 프리 스퍼터링 30분 스퍼터링 30분을 진행해도 플라즈마에 의해 타겟이 깎인 부분도 전혀 없이 원래 상태 그대로이며 그에 따라 시편에도 Al이 증착되지 않고 깨끗한 상태입니다.
조건이 잘못된 것인지 플라즈마는 뜨는데 왜 증착은 되지 않는지 고민이 되어 자문을 구해봅니다.
현재 스퍼터 및 플라즈마 상태는 첨부한 이미지와 같습니다.
두 번째 이미지는 anode shield를 분리 후 찍은 것입니다.
감사합니다.
Al 플라즈마에 sputter target으로 부터 target atom이 유입되면 Ar 플라즈마 특성이 변해야 합니다. 혼입 입자의 이온화 또는 여기 현상을 OES로 진단이 가능해야 합니다. 만일 광신호 변화가 없다면 sputter yield가 매우 낮다는 의미가 됩니다.
당연히 그 이유는 제가 알 수가 없습니다. rebuild 과정에서 어떤 일이 있었는지의 정보는 실험실 내의 연구 노트에 남아 있을 것이니, 찾아 보셔야 하겠군요.
연구실의 장비 이력을 가장 잘 아실 분과 협의해 보시기 바랍니다.