안녕하십니까

 

광주과학기술원 박사과정 학생인 김현일입니다.

 

이번에 CCP장비를 제작하면서 

 

CCP장비 분석을 어떻게 해야할지 잘모르고 discharge에 문제가 있어 이렇게 문의드리게 되었습니다.

 

CCP 장비에서 electrode 사이에 인가되는 방전 전압 및 전류값을 측정하고싶은데

 

아래 그림과 같이 챔버 외부에서 high voltage probe로 측정을 하였을때 인가되는 전압을 방전전압으로 측정이 가능한지 알고 싶습니다.

 

그리고 전류는 접지되는 electrode에서 접지선에서 측정되는 전류로 측정을할수있는지 알고싶습니다.

 

스크린샷 2024-02-22 111047.png

 

그리고 현재 사용하는 RFPT사의 matcher장비의 impedence matching이 

 

CCP장비에서 발생하는 plasma의 밝기가 어느정도 이상으로 높아지면 impedance maching을 못맞추는 문제가 발생합니다.

 

인가 전압이 상승하면 CCP의 임피던스가 감소한다고 하던데 생성되기 쉬운 범위로 올라가면 impedance maching 범위를 벗어나는것은 아닌것으로 생각되는데 단순 장비의 문제인지 궁금합니다.(처음에 plasma가 발생하다 maching이 깨지고 장비가 제대로 매칭이 안됩니다.)

 

임피던스가 감소하면서 반대로 maching 범위 밖으로 나가는거라면 단순히 impedance matcher 안에있는 코일의 L값이 좀더 큰 코일로 교체하면되는지도 알고싶습니다.

 

긴 질문글 읽어주셔서 감사합니다.

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [318] 83305
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 22081
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 58847
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 70496
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 96634
» CCP장비 discharge 전압 및 전류 측정 방법 과 matcher 문제 관하여 [HV probe 전압 측정] [2] file 368
764 플라즈마 식각 시 notching 현상 관련 [Ar, O2 플라즈마 생성 특성] [1] 368
763 skin depth에 대한 이해 [Stochastic heating 이해] [1] 377
762 챔버의 Plasma density 확인방법 문의드립니다. [플라즈마 모니터링, OES, LP] [1] 380
761 gas에 따른 deposition rate 및 저항질문 있습니다 [박막 문제] [1] 385
760 Massbalance equation 에서 P(t) 유도과정 390
759 공정 진행 중 의도적인 섭동 효과에 대해서 질문 드립니다. [Rise rate] [1] 397
758 Plasma 장비 소재 특성 관련하여 문의드립니다. [DC breakdown 및 sheath] [1] 399
757 RF 스퍼터 관련 질문이 있습니다. [장비 분해 리빌트 및 테스트] [1] 400
756 ICP/CCP 플라즈마 식각 공정 개발 [Plasma sheath 및 Plasma generation] [1] 405
755 RIE 설비 관련 질문 좀 드려도 될까요? [RF matcher noise] [1] 408
754 Etch Plasma 관련 문의 건.. [RF 주파수와 플라즈마 주파수] [1] 410
753 CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [식각 교재 참고] [1] file 414
752 RF sputter 증착 문제 질문드립니다. [OES 진단과 sputter yield] [1] file 416
751 입자에너지에따른 궤도전자와 핵의 에너지loss rate file 420
750 RIE Gas 질문 하나 드려도 될까요? [Sheath instability] [1] 422
749 플라즈마 에너지가 온도를 높혀주는 역할 [전자 충돌 현상 및 입자 충돌 현상] [1] 422
748 E-field plasma simulation correlating with film growth profile [플라즈마 확산과 밀도 분포] [1] 428
747 chamber에 인가되는 forward power 관련 문의 [송전선로 모델 및 전원의 특성] [1] 432
746 메틸기의 플라즈마 에칭반응 메커니즘 [공정 플라즈마] [1] 443

Boards


XE Login