안녕하십니까 RF Power 공급 업체에 다니고 있는 직장인 입니다.

한가지 궁금한 점이 있어서 질문 올립니다.

현재 장비사에서 다른 Power 업체에서 사용하던 것을 저희 업체로 변경 하여 사용했는데

공정 결과 ER이 20% 낮게 나왔다고 합니다.

공정 시 같은 Power, 같은 ICP설비 안테나로 진행 하였으며 RF Matcher와 RF Generator의 Maker만 바뀐 상황입니다.

이와 관련하여 혹시 Matcher가 ER을 낮게 할 수 있는 원인이 될 수 있는지 여부가 궁금합니다.

혹시 관련된 자료 있으면 링크좀 부탁드리겠습니다.

감사합니다.
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [85] 2302
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 12790
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 49615
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 61094
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 78902
539 플라즈마 충격파 질문 [1] 589
538 전자 온도에 대한 질문이 있습니다. [1] 592
537 O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의 file 594
536 CVD (CCP) 공정의 Chamber seasoning과 플라즈마 밀도 [1] 605
535 Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [1] 607
534 RF tune position 과 Vrms의 관계가 궁금합니다 [1] 609
533 PECVD와 RIE의 경계에 대해 [1] 614
532 문의 드립니다. [1] 616
531 3-body recombination 관련 문의드립니다. [2] 617
530 Decoupled Plasma 관련 질문입니다. [1] 625
529 새집 증후군 없애는 플러스미 - 플라즈마에 대해서 [1] 629
528 HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [1] 631
527 RF MATCHING 관련 교재 추천 부탁드립니다 [1] 633
526 플라즈마 진단에서 rogowski 코일 관련 질문 드립니다. [1] 635
525 부가적인 스퍼터링 관련 질문 드립니다. [1] 638
524 산소 플라즈마 처리 관하여 질문드립니다. [1] 639
523 플라즈마 장치 관련 기초적 질문입니다. [1] 640
522 low pressure 영역에서 아킹이 더 쉽게 발생하는 이유에 관해 문의드립니댜. [1] 641
521 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [1] 643
520 wafer bias [1] 645

Boards


XE Login