안녕하세요. 전남대학교 정세훈이라고 합니다.
몇가지 궁금한점이 있어 질문드립니다

a)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 500 eV.

b)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 5000 eV

Cu원자의 에너지값이 어떻게되나요? 여러논문을 검색해보았는데
thompson distribution E/(E+Eb) 에 대해서는 나오는데.. 계산이 잘 안돼서요..
--------------------
위의 질문에 대한 참고 자료를 군산대학교 주정훈교수님께서 올려 주셨습니다. 그림과 같이 Kr 입자 조사에 의한 스퍼터링된 Cu의 에너지 및 이탈 속도 함수를 보여주고 있습니다. Ar과 조사 입자의 질량 차이가 있을 뿐 이를 고려한다면 거의 현상은 유사할 것으로 판단됩니다. 이 자료는 교재에 있다고 하니 참고하시기 바랍니다. 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [317] 82721
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 21981
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 58759
» kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 70390
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 96328
684 플라즈마 기본 사양 문의 [형광등 동작 원리] [1] 698
683 Co-relation between RF Forward Power and Vpp [RF ground] [1] 701
682 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [Self bias와 RIE] [1] 711
681 프리쉬스에 관한 질문입니다. [Ambipolar diffusion 및 collisionless sheath] [1] 712
680 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [Plasma information과 monitoring] [1] file 712
679 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [플라즈마 생성, Plasma collision reaction] [1] 714
678 전공수준에 따른 RF plasma 영향 관련 질문 [Ion beam source] [1] file 717
677 CCP RIE 플라즈마 밀도 [Global model, Plasma generation, Ionization collision] [1] 721
676 Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [Sheath 전기장 및 instability] [1] file 726
675 기판표면 번개모양 불량발생 [Plasma charging] [1] 742
674 Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time [TVP(Thorottle Valve Position)] [1] file 745
673 RPC ClEAN시 THD 발생 [RF shield와 ground의 강화] [1] 760
672 OES 파장 관련하여 질문 드립니다. [데이터+플라즈마광학 모델] [1] 760
671 OES를 통한 공정 개선사례가 있는지 궁금합니다. [플라즈마의 분포와 공정 진단] [1] 760
670 Edge ring의 역할 및 원리 질문 [플라즈마 밀도 및 전위 제어] [1] 771
669 주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 [Plasma heating] [1] 778
668 RF Sputtering Target Issue [Sputtering] [2] file 781
667 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [RF 접지 및 체결, 결합부분 교체] [1] 781
666 N2 GAS를 이용한 Plasma에 대한 질문 [질소 플라즈마] [1] 782
665 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [Plasma torch와 cyanide] [2] 786

Boards


XE Login