Ion/Electron Temperature ICP power와 ion energy사이의 관계에 대해서 문의드립니다.
2017.07.07 15:24
안녕하세요 저는 유니스트에 재학중인 대학원생 홍석모입니다.
제가지금 ICP CVD장비를 사용하고 있는데 플라즈마에 대한 배경지식이 없어서 혹시나 도움이 될까 글을 남겨 봅니다.
지금 저희가 쓰고 있는 장비의 스펙에 대해서 간단히 설명드리면
cylinder type
출력 주파수 13.56MHz
주파수 안정도 ±0.005%
RF 출력 임피던스 50 ohm nominal
AC 입력Power Line 208/220/230 Vac/단상 50-60Hz
정격RF Power Output YSR-06MF: 600W @ 50 ohm.
RF Output Connector N Type
DIMENSION 482W * 458D * 178H / 36Kg
그리고 작동 압력은 0.1 torr에서 0.01torr사이에서 작동 하고 있습니다.
제가 궁금한것은 power와 ionenergy사이의 관계를 알고 싶고, 시뮬레이션이 가능하다면 어떤 프로그램으로 할수 있는지 알려주시면 정말 감사하겠습니다.
감사합니다.
홍석모.
댓글 2
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [220] | 75427 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 19163 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 56479 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 67558 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 89368 |
182 | 쉬쓰 천이지역에 관한 질문입니다. [1] | 1080 |
181 | 자기 거울에 관하여 | 1081 |
180 | Plasma Cleaning 관련 문의 [1] | 1106 |
179 | CVD 막질의 성질에 대해 질문드립니다. [1] | 1115 |
178 | 플라즈마 관련 교육 [1] | 1129 |
177 | 플라즈마의 직진성에 관해 질문드립니다. [2] | 1157 |
176 | 플라즈마에서 가속 전압 또는 RF 파워 관련 질문드려요. [1] | 1183 |
175 | low pressure 영역에서 아킹이 더 쉽게 발생하는 이유에 관해 문의드립니댜. [1] | 1207 |
174 | 플라즈마 기초입니다 [1] | 1219 |
173 | standing wave effect에 대한 질문이 있습니다. [1] | 1224 |
172 | Edge ring과 플라즈마 밀도 균일성 [1] | 1280 |
171 | glow 방전 현상과 플라즈마 현상에 궁금하여 글 남깁니다. [2] | 1282 |
170 | O2 plasma etching 관련 질문이 있습니다. [1] | 1323 |
169 | 플라즈마 내에서의 현상 [1] | 1342 |
168 | RF 전압과 압력의 영향? [1] | 1369 |
167 | PECVD 공정 진행중 chamber wall 부분에서 보이는 plasma instability 관련 질문 드립니다. [1] | 1372 |
166 | 플라즈마 입자 운동 원리(전자기장에서) [1] | 1372 |
165 | 강의를 들을 수 없는건가요? [2] | 1381 |
164 | 플라즈마 rotational temperature에 관해서 질문드릴게 있습니다. [1] | 1397 |
163 | 데포 중 RF VDC DROP 현상 [1] | 1426 |