Ion/Electron Temperature N2 Plasma 상태에 대해서 질문 드립니다.
2019.06.07 16:36
안녕하세요, 한국기술교육대학교에서 석사과정중인 최인규입니다.
현재, Plasma 상태에서의 분자와 기판의 반응을 시뮬레이션을 통해서 모사해 보려고 하고 있습니다.
다만 현재 N 플라즈마 상태에서, N이 어떠한 형태로 존재하는지 알지 못하고 있습니다.
H 플라즈마의 경우에는 I. Mendezet al , J. Phys. Chem . Rev . A 110 2006 ) 6060 6 논문을 참고하여,
H 원자 형태로 가장 많이 존재하며 그 이후로 H3+, H+, H2+ 순으로 구성되어있다고 하는데,
N 플라즈마의 경우 대부분이 N+ / N2+ 의 비율로만 보여주고 있어 어려움이 있습니다.
혹 N이 이온이 아닌 원자 형태로 존재하는지, 존재를 한다면 N+, N2+ 대비 얼마나 존재 할지 궁금하여 질문드립니다.
감사합니다.
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] | 76685 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20152 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57159 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68680 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92216 |
193 | 플라즈마 코팅 [1] | 1036 |
192 | Decoupled Plasma 관련 질문입니다. [1] | 1046 |
191 | 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 어떤 이유들이 있을까요..? [2] | 1073 |
190 | 잔류시간 Residence Time에 대해 [1] | 1113 |
189 | MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [1] | 1114 |
188 | 전자 온도 구하기 [1] | 1123 |
187 | wafer bias [1] | 1127 |
186 | 플라즈마 주파수 예측관련 질문드립니다 [1] | 1130 |
185 | 자기 거울에 관하여 | 1136 |
184 | Group Delay 문의드립니다. [1] | 1143 |
183 | 쉬쓰 천이지역에 관한 질문입니다. [1] | 1154 |
182 | 플라즈마 형성시 하전입자의 밀도와 챔버에 관련해서 질문드립니다. [2] | 1224 |
181 | 플라즈마의 직진성에 관해 질문드립니다. [2] | 1235 |
180 | RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [1] | 1236 |
179 | 플라즈마 기초입니다 [1] | 1279 |
178 | 플라즈마에서 가속 전압 또는 RF 파워 관련 질문드려요. [1] | 1284 |
177 | CVD 막질의 성질에 대해 질문드립니다. [1] | 1326 |
176 | Plasma Cleaning 관련 문의 [1] | 1342 |
175 | low pressure 영역에서 아킹이 더 쉽게 발생하는 이유에 관해 문의드립니댜. [1] | 1344 |
174 | 플라즈마 내에서의 현상 [1] | 1386 |