안녕하세요, 현재 반도체 회사에서 근무 중입니다.

관리하는 설비 중 Decoupled Plasma를 사용하는 설비가 있습니다.

ICP Type의 설비이고 ESC Chuck은 사용하지않습니다.

pulsed rf power를 사용하는 설비인데, 여기서 decoupled plasma의 개념에 대해 궁금해서 질문남깁니다.

 

질문) Decoupled Plasma는 ion density와 ion energy를 분리한다는 의미인데 rf power의 상승에 따라 ion density는 상승하지만 ion energy는 낮은 상태를 유지하는 Mechanism이 궁금합니다.

 

항상 많이 배우고 있습니다.

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [46] 963
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 748
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 49342
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 58726
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [1] 72991
228 구 대칭으로 편광된 전자기파를 조사할 때에 대한 질문입니다. [1] file 87
227 공정 진행 중 의도적인 섭동 효과에 대해서 질문 드립니다. [1] 102
226 잔류시간 Residence Time에 대해 [1] 137
225 플라즈마를 통한 정전기 제거관련. [1] 142
» Decoupled Plasma 관련 질문입니다. [1] 150
223 자외선 세기와 결합에너지에 대해 질문드립니다. [1] 173
222 electron energy distribution에 대해서 질문드립니다. [2] 175
221 KM 모델의 해석에 관한 질문 [1] 177
220 CVD 막질의 성질에 대해 질문드립니다. [1] 181
219 전자 온도에 대한 질문이 있습니다. [1] 190
218 Fluoride 스퍼터링 시 안전과 관련되어 질문 [1] 191
217 VPS 공정에서 압력변수관련 질문입니다. [1] 211
216 염소발생 전기분해 시 스파크 발생에 관해 질문드립니다. [1] file 220
215 Massbalance equation 에서 P(t) 유도과정 232
214 Shield 및 housing은 ground 와 floating 중 어떤게 더 좋은지요 [2] 241
213 입자에너지에따른 궤도전자와 핵의 에너지loss rate file 259
212 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 어떤 이유들이 있을까요..? [2] 264
211 Hollow Cathode glow Discharge 실험 관련해서 여쭤보고싶습니다. [1] file 266
210 크룩수의 음극선도 플라즈마의 현상인가요? [1] 269
209 플라즈마 용어 질문드립니다 [1] 277

Boards


XE Login