Plasma in general 데포 중 RF VDC DROP 현상
2021.07.29 15:44
안녕하세요 반도체회사 장비 엔지니어입니다.
박막 과정 데포 중 RF VDC가 드랍 되는 현상이 있습니다. GAS양, CH 내 PRESSURE, 등등 변하는 것이 없는데 왜 갑자기 DROP 되는 걸까요?
영향을 줄만한 인자가 어떤 것이 있을까요? 장비를 잘 쓰다가 갑자기 DROP이 일어나고 그 이후는 다시 올라 오지 않습니다 ㅠ
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] | 76726 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20172 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57166 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68696 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92274 |
| 233 | self bias [1] | 527 |
| 232 | 전쉬스에 대한 간단한 질문 [1] | 550 |
| 231 | Frequnecy에 따라 플라즈마 영역이 달라질까요? [1] | 558 |
| 230 | Arcing 과 Self-DC Bias Voltage 상관 관계 [1] | 559 |
| 229 | Plasma Reflect를 관리하는 방법이 있을까요? [1] | 579 |
| 228 | 간단한 질문 몇개드립니다. [1] | 587 |
| 227 |
수중 속 저온 플라즈마 방전 관련 질문 드립니다
[2]  | 589 |
| 226 | Co-relation between RF Forward power and Vpp [1] | 593 |
| 225 | 프리쉬스에 관한 질문입니다. [1] | 596 |
| 224 | plasma 공정 중 색변화 [1] | 604 |
| 223 | 플라즈마를 알기 위해선 어떤 과목을 공부해야 할까요? [1] | 634 |
| 222 | RF magnetron sputtering시 플라즈마 off현상 [1] | 665 |
| 221 | 안녕하세요. 플라즈마 기체분자종에 따른 기판charing정도차이 문의 [1] | 679 |
| 220 | 플라즈마 진단 공부중 질문 [1] | 687 |
| 219 | RF 주파수에 따른 차이점 [1] | 699 |
| 218 | 플라즈마를 통한 정전기 제거관련. [1] | 707 |
| 217 | 코로나 전류가 0가까이 떨어지는 현상 [1] | 709 |
| 216 | Ion과 Radical의 이동 거리 및 거리에 따른 농도와 증착 품질 관련 [1] | 736 |
| 215 | 교수님 질문이 있습니다. [1] | 744 |
| 214 |
Hollow Cathode glow Discharge 실험 관련해서 여쭤보고싶습니다.
[1] | 756 |
저도 원인에 대한 확신은 없습니다. 다만, 관련되는 현상으로 floating electrode 표면에서 형성되는 bias을 Vdc라 하니, Vdc, 혹은 부유 전극에 selfbias가 형성되는 과정을 공부해 보시면 원인 해결에 실마리를 찾지 않을지요? 부유 조건이 만족하지 않으면 전하 충전에 의한 self bias가 형성되지 않습니다. 여기서 부유 전위라면 플라즈마와 대면하고 있는 시편의 부도체 coating 표면도 포함이 되니 이 점 참고하시어 기본 현상에서 원인을 찾아 보시기를 추천드립니다.