저는 최근 반도체 증착장비에 대해 공부하다 플라즈마에 대해 궁금증이 생겨서 질문을 남깁니다.
 
스퍼터링법에서 플라즈마 발생 원리는 챔버내에 가스를 주입하고 타겟(도체)에다 DC전원으로 음전압을 가해주어 타겟이 음극이 되게되고
 
음극이 된 타겟에서 전자들이 튀어나와 가스들과 충돌하고 가스들이 전자의 에너지를 받아 이온화가 되어 양이온과 전자로 나눠지게 되는 플라즈마 상태가 형성되는걸로 알고 있습니다.
 
하지만 도체인 타겟말고 부도체인 타겟을 사용하게 될때는 DC말고  RF파워를 사용을 한다고 하는데
 
타겟이 도체인 경우 음전압을 가해주면 전자의 이동이 쉬워 음극이 되게되고 이 음극이 된 타겟에서 전자들이 나와 가스와 충돌하여 플라즈마가 되는데
 
타겟이 부도체인경우 RF파워로 음전압 가해주어도 전자의 이동이 쉽지가 않으니 음극이 되지 않아 전자가 방출이 되지 않아서 플라즈마가
 
생성이 되지 않는다고 생각이 되는데 어떻게 해서 타겟이 부도체인데 플라즈마가 형성이 되는지 궁금해서 질문을 드립니다.
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [54] 1200
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 950
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 49376
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 59488
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [1] 74194
132 PE 모드와 RIE 모드에서 쉬스 구역에 대한 질문 [1] 1694
131 plasma etching을 관련 문의드립니다. [1] 1709
130 Gas 별 Plasma 색 관련 질문입니다. [1] 1803
129 양극 코로나 방전에 대한 질문입니다. [1] 1863
128 Descum 관련 문의 사항. [1] 1915
» 부도체를 타겟으로 한 플라즈마 형성 원리 [1] 1965
126 플라즈마 압력에 대하여 [1] 2006
125 ICP와 CCP는 단순히 플라즈마를 생서하는 방법인가요? [1] 2243
124 O2 plasma, H2 plasma 처리 관련 질문이 있습니다. [1] 2335
123 아르곤이나 기타 플라즈마 토치에 소량의 수증기를 집어넣으면 온도가 떨어지는 현상에 대해서 2358
122 RF chamber에서.. particle(부유물) 와 RF reflect power연관성 [1] 2396
121 방전에서의 재질 질문입니다. [1] 3251
120 O2, N2, Ar 플라즈마에 대한 질문입니다. [2] 3424
119 RF power에 대한 설명 요청드립니다. [1] 3743
118 RF Vpp 관련하여 문의드립니다. [1] 4517
117 OES를 활용한 excitation temperature 분석 질문입니다. [1] 4990
116 플라스마 상태에서도 보일-샤를 법칙이 적용 되나요? [1] 5474
115 Ion Energy와 RF matchin관련 질문입니다. [1] 5559
114 플라즈마 기술관련 문의 드립니다 [1] 5832
113 저온플라즈마에 대하여 ..질문드립니다 ㅠ [1] 6235

Boards


XE Login