CCP anode sheath 질문드립니다.

2021.07.15 08:42

해운대온천 조회 수:163

안녕하십니까. 플라즈마 관련 회사를 다니는 사람입니다.

 

쉬스에 관해서 조금 공부를 하고 있습니다..

 

1. ccp방식에서 전극을 캐소드, 애노드 라고 표현하는 이유를 알고 싶습니다. 배터리와 같은 관점으로 전류가 나오는 곳을 캐소드라고 하는건가요?

 

2. 캐소드 쉬스가 애노드 쉬스 보다 두꺼운 이유는 무엇인가요?(단순히 A/C ratio때문인지...?), 두 전극의 면적차이가 같을 경우에도... 쉬스의 두께 차이가 존재하나요?

 

인터넷으로 블로그에 나와있는 글을 봤는데 거기서는, "양이온은 애노드로 접근하기 힘들겠지만, 전자들은 이보다 훨씬 빠르게 애노드로 들어갈수 있기 때문에, 그만큼 애노드에서는 중화되버리고, 전위의 차이가 매꿔지게 된다. 즉 , 쉬스 포텐셜의 차이가 줄어들게 되고, 얇은 쉬스가 될수 밖에 없다" 라고 되어있더라구요... 오히려 더 헷갈리는거 같습니다..

 

(쉬스라는것은 전자와 이온의 속도차이에 의해서, 전극 표면에 쌓인 음전하들로 대전되어, 전위가 플라즈마 보다 낮고, 전자는 들어가기 힘들고, 양이온은 많이 들어가는... 그러한 공간을 말하는것 아닌가요?)

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [46] 963
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 748
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 49342
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 58726
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [1] 72991
» anode sheath 질문드립니다. [1] 163
121 RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때 [1] 165
120 H-field 측정위치에 따른 H Field MAP 변화 관련 [1] 165
119 라디컬의 재결합 방지 [1] 171
118 CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [1] 196
117 CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [1] 212
116 PECVD와 RIE의 경계에 대해 [1] 232
115 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!! [1] 269
114 수중방전에 대해 질문있습니다. [1] 271
113 Plasma에 의한 분해 및 치환 반응(질문) [1] 279
112 핵융합 질문 [1] 324
111 Si Wafer에 Plasma를 처리했을때 정전기 발생 [1] 331
110 Tribo-Plasma 에 관해서 질문드리고 싶습니다. 333
109 해수에서 플라즈마 방전 극대화 방안 [1] file 347
108 ECR ion source에서 plasma가 켜지면 RF reflect가 심해집니다. [2] 349
107 플라즈마 챔버 [2] 366
106 Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [1] 369
105 조선업에서 철재절단용으로 사용하는 가스 프라즈마에 대한 질문 [1] 396
104 RPS를 이용한 유기물 식각장비 문의 [1] 397
103 좁은 간격 CCP 전원의 플라즈마 분포 논문에 대해 궁금한 점이 있습니다. [2] 416

Boards


XE Login