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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 71826
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91 ICP lower power 와 RF bias [Self bias, Floating sheath] [1] 1878
90 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [Faraday shield] [1] 1883
89 N2, N2O Gas 사용시 Plasma 차이점 [N2 Plasma] [1] 1892
88 Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [ICP match impedance] [1] 1899
87 PECVD와 RIE의 경계에 대해 [DC bias 형성 판단] [1] 1912
86 plasma 형성 관계 [Paschen's law, 플라즈마 주파수] [1] 1913
85 ICP reflecot power [Insulator와 rf leak] [1] 1948
84 가입인사드립니다. [1] 2013
83 ICP와 CCP에서의 Breakdown voltage [Breakdown과 E-H transition] [1] 2022
82 유도결합 플라즈마 소스 질문!!!? [전기장 내 입자 거동] [2] 2078
81 N2 Blowing Ionizer 사용 시 궁금점 질문 드립니다. [N2 Ionizer 이온 및 중성 입자 해석] [1] 2127
80 RF generator 관련 문의드립니다 [Matcher와 line damage] [3] 2284
79 안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다! [N2 플라즈마] [1] 2302
78 Remote Plasma가 가능한 이온 [Remote plasma와 diffusion] [1] 2433
77 RPG Cleaning에 관한 질문입니다. [라디컬 측정 방법 및 세정 기술] [2] 2512
76 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [Self bias 및 ICP E/H mode] [2] 2618
75 CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [Paschen's Law, P-d 방전 곡선] [1] 2663
74 안녕하세요. 교수님 ICP 관련하여 문의드립니다. [충돌 단면적 및 반응 계수] [2] 2702
73 RPS를 이용한 SIO2 에칭 [Etch와 remote plasma] [1] 2711
72 RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [Standing wave effect] [1] 2809

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