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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[337]
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [Faraday shield]
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PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [Ar plasma, Ar metastable]
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Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [ESC와 Chamber impedance]
[1] | 2084 |
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가입인사드립니다.
[1] | 2097 |
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N2, N2O Gas 사용시 Plasma 차이점 [N2 Plasma]
[1] | 2127 |
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ICP lower power 와 RF bias [Self bias, Floating sheath]
[1] | 2129 |
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plasma 형성 관계 [Paschen's law, 플라즈마 주파수]
[1] | 2131 |
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ICP reflecot power [Insulator와 rf leak]
[1] | 2142 |
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PECVD와 RIE의 경계에 대해 [DC bias 형성 판단]
[1] | 2152 |
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유도결합 플라즈마 소스 질문!!!? [전기장 내 입자 거동]
[2] | 2177 |
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ICP와 CCP에서의 Breakdown voltage [Breakdown과 E-H transition]
[1] | 2217 |
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N2 Blowing Ionizer 사용 시 궁금점 질문 드립니다. [N2 Ionizer 이온 및 중성 입자 해석]
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RF generator 관련 문의드립니다 [Matcher와 line damage]
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안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다! [N2 플라즈마]
[1] | 2514 |
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Remote Plasma가 가능한 이온 [Remote plasma와 diffusion]
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교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [Self bias 및 ICP E/H mode]
[2] | 2742 |
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RPG Cleaning에 관한 질문입니다. [라디컬 측정 방법 및 세정 기술]
[2] | 2797 |
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안녕하세요. 교수님 ICP 관련하여 문의드립니다. [충돌 단면적 및 반응 계수]
[2] | 2820 |
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CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [Paschen's Law, P-d 방전 곡선]
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RPS를 이용한 SIO2 에칭 [Etch와 remote plasma]
[1] | 2924 |
