질문하실 때 실명을 사용하여주세요.

2010.11.25 15:38

관리자 조회 수:78771 추천:380

플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [85] 2300
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 12788
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 49615
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 61092
» 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 78771
33 MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [1] 203
32 KM 모델의 해석에 관한 질문 [1] 219
31 전쉬스에 대한 간단한 질문 [1] 348
30 프리쉬스에 관한 질문입니다. [1] 372
29 교수님 질문이 있습니다. [1] 477
28 안녕하세요. 플라즈마 기체분자종에 따른 기판charing정도차이 문의 [1] 503
27 LF Power에의한 Ion Bombardment [1] 570
26 wafer bias [1] 645
25 CVD 공정에서의 self bias [1] 682
24 아래 382 번 질문에 대한 추가 질문 드립니다. [1] 749
23 쉬쓰 천이지역에 관한 질문입니다. [1] 843
22 쉬스(sheath)에서 전자와 이온의 감소 관련하여 질문 [1] 1179
21 plasma sheath 두께의 영향에 대하여 질문드립니다. [2] 1761
20 PE 모드와 RIE 모드에서 쉬스 구역에 대한 질문 [1] 1900
19 부도체를 타겟으로 한 플라즈마 형성 원리 [1] 2001
18 Sheath 길이와 전자의 온도 및 MFP간의 관계에 대해 질문 드립니다. [1] 3715
17 Ion Energy와 RF matchin관련 질문입니다. [1] 6618
16 RF & DC sputtering에 대해 질문드립니다. [1] 8256
15 Sheath와 Darkspace에 대한 질문입니다. [1] 8315
14 DC bias (Self bias) [3] 9676

Boards


XE Login