kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
2009.11.17 16:06
안녕하세요. 전남대학교 정세훈이라고 합니다.
몇가지 궁금한점이 있어 질문드립니다
a) the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 500 eV.
b) the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 5000 eV
Cu원자의 에너지값이 어떻게되나요? 여러논문을 검색해보았는데
thompson distribution E/(E+Eb) 에 대해서는 나오는데.. 계산이 잘 안돼서요..
--------------------
위의 질문에 대한 참고 자료를 군산대학교 주정훈교수님께서 올려 주셨습니다. 그림과 같이 Kr 입자 조사에 의한 스퍼터링된 Cu의 에너지 및 이탈 속도 함수를 보여주고 있습니다. Ar과 조사 입자의 질량 차이가 있을 뿐 이를 고려한다면 거의 현상은 유사할 것으로 판단됩니다. 이 자료는 교재에 있다고 하니 참고하시기 바랍니다.
댓글 0
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] | 76650 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20147 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57147 |
| » | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68668 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92125 |
| 35 | Sheath와 Plasma Bulk에 걸리는 전압 관련 문의 [1] | 440 |
| 34 | KM 모델의 해석에 관한 질문 [1] | 442 |
| 33 | 전쉬스에 대한 간단한 질문 [1] | 546 |
| 32 | 프리쉬스에 관한 질문입니다. [1] | 596 |
| 31 | 안녕하세요. 플라즈마 기체분자종에 따른 기판charing정도차이 문의 [1] | 678 |
| 30 | 교수님 질문이 있습니다. [1] | 738 |
| 29 | RF 전압인가 시 LF와 HF 에서의 Sheath 비교 [1] | 860 |
| 28 | 아래 382 번 질문에 대한 추가 질문 드립니다. [1] | 991 |
| 27 | MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [1] | 1111 |
| 26 | wafer bias [1] | 1125 |
| 25 | 쉬쓰 천이지역에 관한 질문입니다. [1] | 1154 |
| 24 | 쉬스(sheath)에서 전자와 이온의 감소 관련하여 질문 [1] | 1894 |
| 23 | LF Power에의한 Ion Bombardment [2] | 1996 |
| 22 | 부도체를 타겟으로 한 플라즈마 형성 원리 [1] | 2234 |
| 21 | PE 모드와 RIE 모드에서 쉬스 구역에 대한 질문 [1] | 2752 |
| 20 | CVD 공정에서의 self bias [1] | 3086 |
| 19 | plasma sheath 두께의 영향에 대하여 질문드립니다. [2] | 3350 |
| 18 | Sheath 길이와 전자의 온도 및 MFP간의 관계에 대해 질문 드립니다. [1] | 4791 |
| 17 | Sheath와 Darkspace에 대한 질문입니다. [1] | 8916 |
| 16 | RF & DC sputtering에 대해 질문드립니다. [1] | 8975 |