CCP Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance

2020.04.06 11:29

이윤재 조회 수:1015

안녕하세요,

반도체 회사에서 CVD 장비 업무를 맡고 있는 이윤재입니다.

업무 중 CCP Type Chamber에 Warpage 심화 Wafer가 투입되었을 때,

Impedance I 가 Drop 되는 현상이 있었습니다.

이 때 이 원인을 파악하려고 하는데, 논문이나 과거 자료를 봐도 나오지가 않아서

질문을 드립니다..

Q. Warpage 심화 Wafer가 상대적으로 Flat한 Wafer 보다 Impedance Drop이 되는 원인은,

   Edge 쪽 ( Wafer와 Heater가 Contact 되지 않음) 이 문제가 되는 것으로 추정되는데

  정확한 원인이 무엇인지 궁금합니다.


감사합니다.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [220] 75420
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19154
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 56477
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 67551
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 89343
25 주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가 [1] 201
24 plasma striation 관련 문의 [1] file 363
23 CCP RIE 플라즈마 밀도 [1] 428
22 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [1] file 499
21 라디컬의 재결합 방지 [1] 652
20 RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때 [1] 732
19 CCP Plasma 해석 관련 문의 [1] file 777
18 anode sheath 질문드립니다. [1] 784
17 CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [1] 802
16 HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [1] 941
» Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [1] 1015
14 PECVD와 RIE의 경계에 대해 [1] 1251
13 CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [3] 1470
12 CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [1] 2006
11 CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다. [1] file 3125
10 CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요? [3] 3185
9 CCP에서 DIelectric(유전체)의 역활 [1] 7512
8 CCP 의 electrode 재질 혼동 16389
7 좁은 간격 CCP 전원의 플라즈마 분포 논문에 대해 궁금한 점이 있습니다. [2] 16493
6 capacitively/inductively coupled plasma 17678
쓰기
태그

Boards

XE Login