안녕하세요. 반도체 회사에 근무하는 김화중입니다.

 

제목에 언급드린대로 CCP 구조에서 chamber에 쌓이는 막질에 의한 capacitance 변화가 어떻게 될지 예상해보던 중 잘 모르겠어서 질문드립니다.

 

비정질 물질을 사용하는 chamber에서 S/H에 depo 되는 막질이 쌓여감에 따라 capacitance 가 변화하고 이로 인해 impedance 가 변할걸로 예상되는데요. 변화 방향을 계산해보고 싶습니다.

 

막질 A,B가 쌓인다고 했을 때 A의 cap 값은  물질의 dielectric constant 에 비례하고 막의 두께에 반비례하게 계산하고 이 B도 마찬가지로 계산하여 원래 CCP의 cap과 막질로 의한 cap이 직렬로 연결된 구조로 봐서 총 cap 값을 계산하면 되는걸까요?

 

다른 질문들을 보면서 학습하던 중 교수님께서 답변 달아주신 "특히 CCP의 경우 전극과 벽면의 erosion 혹은 오염으로 인해 capacitance 특성이 바뀌었습니다. 표면적 변화와 피막의 절연층이 만드는 변화입니다" 라는 내용이 있던데 관련 자료를 찾기 힘들어 이렇게 질문드립니다. 너무 당연한 내용이라면 혹시 어떤 부분을 공부해보면 될지 조언해주시면 감사하겠습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [112] 4892
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 16230
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 51250
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 63749
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 83517
88 고진공 만드는방법. [1] 787
87 대학원 진학 질문 있습니다. [2] 793
86 ESC 표면 온도랑 식각률의 차이가 어떤 관계로 있는걸까요?? [1] 814
85 플라즈마를 이용한 오존 발생기 개발 문의 件 [1] 822
84 RF matcher와 particle 관계 [2] 866
83 RF 케이블 발열 현상관련 문의 드립니다. [1] 948
82 CCP 챔버 접지 질문드립니다. [1] file 963
81 안녕하세요? 임피던스 매칭관련 질문드립니다. [1] 998
80 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [1] file 1123
79 MATCHER 발열 문제 [3] 1141
78 rf chamber 내에 생기는 byproduct에 대한 질문 있습니다. [1] 1152
77 Impedence 위상관련 문의.. [1] 1199
76 압력 변화와 Ch Impedance 상관관계 질문 [1] 1250
75 임피던스 실수부에 대해 궁금한 점이 있습니다. [4] 1447
74 CVD CCP/ICP 사용간 Wafet Bias volt 줄어듬 현상 문의드려요 [1] 1542
73 Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요? [1] 1591
72 3 stub 정합에 대해 궁금합니다. [1] 1605
71 PRECOATING 공정에서 SHOWERHEAD <-> STAGE HEATER 간 GAP 과 DEPO 막질의 THK 와의 연관성.... [1] 1637
70 chamber impedance [1] 1672
69 Matcher의 Load/Tune Position 거동에 관해 질문이 있습니다. [2] 1683

Boards


XE Login